[发明专利]用于热处理系统的支撑结构在审
申请号: | 202180017407.3 | 申请日: | 2021-02-24 |
公开(公告)号: | CN115176338A | 公开(公告)日: | 2022-10-11 |
发明(设计)人: | 曼努埃尔·森;罗尔夫·布雷门斯多夫;斯克·哈姆;亚历克斯·旺斯德勒 | 申请(专利权)人: | 玛特森技术公司;北京屹唐半导体科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/687 | 分类号: | H01L21/687;H01L21/67 |
代理公司: | 北京易光知识产权代理有限公司 11596 | 代理人: | 梅丹丹;武晨燕 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 热处理 系统 支撑 结构 | ||
1.一种热处理装置,包括:
多个热源,被配置为加热工件;
可旋转支撑板,能够操作以在热处理期间支撑所述工件,所述可旋转支撑板限定径向方向和方位方向;以及
支撑结构,从所述可旋转支撑板延伸,所述支撑结构被配置为在热处理期间接触所述工件,所述支撑结构包括第一端和第二端,其中所述支撑结构的所述第一端被布置为在热处理期间支撑所述工件,其中,所述支撑结构在所述可旋转支撑板的所述径向方向上的柔性大于在所述可旋转支撑板的所述方位方向上的柔性。
2.根据权利要求1所述的热处理装置,其中,所述支撑结构包括石英材料。
3.根据权利要求1所述的热处理装置,其中,所述装置包括多个支撑结构,所述多个支撑结构中的每一个包括支撑销。
4.根据权利要求1所述的热处理装置,其中,所述支撑结构的所述第一端包括锥形端,并且所述支撑结构的所述第二端包括钝端。
5.根据权利要求1所述的热处理装置,其中,所述支撑结构具有约17mm的长度和约1.5mm的直径。
6.根据权利要求1所述的热处理装置,其中,所述支撑结构包括基板,并且所述可旋转支撑板包括一个或多个开口,所述一个或多个开口被配置为接合所述基板以将所述支撑结构固定到所述可旋转支撑板。
7.根据权利要求6所述的热处理装置,其中,所述一个或多个开口在所述基板上定向,使得所述支撑结构在所述径向方向上的倾斜动量大于在所述方位方向上的倾斜动量。
8.根据权利要求6所述的热处理装置,其中,所述支撑结构包括键形端,所述键形端被配置为将所述支撑结构固定到所述可旋转支撑板。
9.根据权利要求1所述的热处理装置,其中,所述支撑结构包括枢轴和配重。
10.根据权利要求9所述的热处理装置,其中,所述枢轴包括销,其中,所述销被配置为插入到所述支撑结构上的开口中。
11.根据权利要求10所述的热处理装置,其中,所述可旋转支撑板包括一个或多个凹袋,所述一个或多个凹袋被配置为接合所述支撑结构的所述枢轴以将所述支撑结构固定到所述可旋转支撑板。
12.根据权利要求1所述的热处理装置,其中,所述可旋转支撑板包括支撑结构支撑架,所述支撑结构支撑架被配置为将所述支撑结构能释放地固定到所述可旋转支撑板。
13.根据权利要求12所述的热处理装置,其中,所述支撑结构支撑架包括枢轴,所述枢轴被配置为使得所述支撑结构在所述径向方向上的倾斜动量大于在所述方位方向上的倾斜动量。
14.一种用于在热处理装置中支撑工件的支撑板,所述支撑板包括:
基座,限定径向方向和方位方向;以及
至少一个支撑结构,从所述基座延伸,所述至少一个支撑结构被配置为在热处理期间支撑所述工件;
其中,所述支撑结构在所述基座的所述径向方向上的柔性大于在所述基座的所述方位方向上的柔性。
15.根据权利要求14所述的支撑板,其中,所述至少一个支撑结构包括三个支撑销。
16.根据权利要求15所述的支撑板,其中,所述至少一个支撑结构包括键形端,所述键形端被配置为将所述至少一个支撑结构固定到所述基座。
17.根据权利要求14所述的支撑板,其中,所述至少一个支撑结构包括枢轴和配重,其中,所述基座包括一个或多个凹袋,所述一个或多个凹袋被配置为接合所述至少一个支撑结构的所述枢轴以将所述支撑结构固定到所述基座。
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