[发明专利]层积体、硬涂涂膜和涂料组合物在审
| 申请号: | 202180016893.7 | 申请日: | 2021-03-04 |
| 公开(公告)号: | CN115175807A | 公开(公告)日: | 2022-10-11 |
| 发明(设计)人: | 白石健太郎;伊势田一也;高野桥宽朗;佐佐木惠吾;服部恭平 | 申请(专利权)人: | 旭化成株式会社 |
| 主分类号: | B32B9/00 | 分类号: | B32B9/00;B60R13/02;B60R13/04;C09J11/04;C09D201/00;C09D201/10;C09J201/00;B60J1/00;C09D7/61;B32B7/023 |
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李洋;庞东成 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 层积 硬涂涂膜 涂料 组合 | ||
1.一种层积体,其具备:
带粘接层的基材,其具有基材以及粘接层,该粘接层配置在所述基材上并且包含粘接性乳液颗粒(F)、无机氧化物(G)和遮光剂(S1);以及
硬涂层(C),其配置在所述带粘接层的基材上并且包含含有无机氧化物(D)的基质成分(B),
其中,所述带粘接层的基材的雾度值H1大于所述层积体的雾度值H2。
2.如权利要求1所述的层积体,其中,所述H2为5%以下。
3.一种层积体,其具备:
带粘接层的基材,其具有基材以及粘接层,该粘接层配置在所述基材上并且包含粘接性乳液颗粒(F)、无机氧化物(G)和遮光剂(S1);以及
硬涂层(C),其配置在所述带粘接层的基材上并且包含含有无机氧化物(D)的基质成分(B),
其中,所述带粘接层的基材的表面粗糙度Ra1大于所述层积体的表面粗糙度Ra2。
4.如权利要求3所述的层积体,其中,所述Ra1为10nm~500nm。
5.如权利要求3或4所述的层积体,其中,所述Ra2小于100nm。
6.如权利要求1~5中任一项所述的层积体,其中,所述遮光剂(S1)包含紫外线吸收剂。
7.如权利要求1~6中任一项所述的层积体,其中,所述粘接层进一步包含受阻胺系光稳定剂。
8.如权利要求1~7中任一项所述的层积体,其中,
所述硬涂层(C)进一步包含分散在所述基质成分(B)中的聚合物纳米颗粒(A),
所述聚合物纳米颗粒(A)的马氏硬度HMA与所述基质成分(B)的马氏硬度HMB满足HMB/HMA1的关系,
所述硬涂层的马氏硬度HM为100N/mm2以上。
9.如权利要求8所述的层积体,其中,所述聚合物纳米颗粒(A)的平均粒径为10nm以上400nm以下。
10.如权利要求8或9所述的层积体,其中,所述硬涂层(C)中的所述聚合物纳米颗粒(A)的体积分数为2%以上80%以下。
11.如权利要求8~10中任一项所述的层积体,其中,
所述聚合物纳米颗粒(A)包含水解性硅化合物(a),
所述聚合物纳米颗粒(A)中的所述水解性硅化合物(a)的含量为50质量%以上。
12.如权利要求11所述的层积体,其中,所述水解性硅化合物(a)包含选自含有下式(a-1)所表示的原子团的化合物、其水解产物和缩合物、以及下式(a-2)所表示的化合物、其水解产物和缩合物中的1种以上,
-R1n1SiX13-n1 (a-1)
式(a-1)中,R1表示氢原子、碳原子数1~10的烷基、烯基、炔基或芳基,R1可以具有含有卤素、羟基、巯基、氨基、(甲基)丙烯酰基或者环氧基的取代基,X1表示水解性基团,n1表示0~2的整数,
SiX24 (a-2)
式(a-2)中,X2表示水解性基团。
13.如权利要求1~12中任一项所述的层积体,其中,所述无机氧化物(D)含有选自由Ce、Nb、Al、Zn、Ti、Zr、Sb、Mg、Sn、Bi、Co和Cu组成的组中的至少一种无机成分。
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