[实用新型]用于异质结电池的镀膜设备

权利要求书

1.一种用于异质结电池的镀膜设备，其特征在于：包括形成有反应腔的壳体、设于反应腔内用于承载并输送半成品电池的输送单元、用于承载靶材的靶材承载件，所述反应腔包括依次排列且连通的第一反应腔、第二反应腔，所述输送单元贯穿第一反应腔和第二反应腔，并且在第一反应腔内，靶材承载件位于所述输送单元的下方，在第二反应腔内，所述靶材承载件位于所述输送单元的上方。

2.如权利要求1所述的用于异质结电池的镀膜设备，其特征在于：所述反应腔还包括位于第一反应腔和第二反应腔之间的第三反应腔，在第三反应腔内，所述靶材承载件位于所述输送单元的下方。

3.如权利要求1所述的用于异质结电池的镀膜设备，其特征在于：所述反应腔还包括依次排列设置于第二反应腔后侧的第三反应腔和第四反应腔，在第三反应腔内，所述靶材承载件位于所述输送单元的下方；在第四反应腔内，所述靶材承载件位于所述输送单元的上方。

4.如权利要求1至3任一项所述的用于异质结电池的镀膜设备，其特征在于：相邻两个反应腔之间设有隔离腔，相邻的隔离腔和反应腔之间相互连通。

5.如权利要求4所述的用于异质结电池的镀膜设备，其特征在于：在输送方向上，相邻反应腔和隔离腔之间相连通的位置形成输送通道，所述输送单元穿设于所述输送通道内。

6.如权利要求2或3所述的用于异质结电池的镀膜设备，其特征在于:还包括连通反应腔的气体管路，所述气体管路具有输送气体的出气口，所述出气口相邻所述靶材承载件设置。

7.如权利要求2或3所述的用于异质结电池的镀膜设备，其特征在于：还包括位于反应腔内的溅射电源和磁控管，所述溅射电源和磁控管相邻所述靶材承载件设置，磁控管位于靶材承载件远离输送单元方向的一侧。

8.如权利要求1所述的用于异质结电池的镀膜设备，其特征在于：还包括连通所述反应腔的真空系统。

9.如权利要求1所述的用于异质结电池的镀膜设备，其特征在于：所述输送单元包括用于承载半成品电池的载板，所述载板上设有若干个镂空槽、形成于镂空槽周围以支撑半成品电池的台阶。

10.如权利要求9所述的用于异质结电池的镀膜设备，其特征在于：所述台阶的宽度在0.5-1mm之间。