[实用新型]一种三维形貌测量的光路结构有效

专利信息
申请号: 202122485982.6 申请日: 2021-10-15
公开(公告)号: CN216745971U 公开(公告)日: 2022-06-14
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 高视科技(苏州)有限公司
主分类号: G01B11/24 分类号: G01B11/24
代理公司: 北京远大卓悦知识产权代理有限公司 11369 代理人: 韩玲
地址: 215000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 三维 形貌 测量 结构
【权利要求书】:

1.一种三维形貌测量的光路结构,其特征在于,包括一个半导体激光器(111)、分束镜(13)、第一成像物镜(19)、第二成像物镜(18)、第一位置探测器(10)和第二位置探测器(20);

所述半导体激光器(111)发射的激光光束经所述分束镜(13)分束后形成第一激光光束和第二激光光束;所述第一激光光束和第二激光光束满足空间正交,且两束激光入射至待测表面(30)上的同一点;

待测表面(30)反射所述第一激光光束和第二激光光束分别至第一成像物镜(19)、第二成像物镜(18)上,经聚焦后分别入射第一位置探测器(10)和第二位置探测器(20)。

2.如权利要求1所述的一种三维形貌测量的光路结构,其特征在于,还包括准直透镜(121);

所述半导体激光器(111)发出的激光先经过所述准直透镜(121)准直后进入所述分束镜(13)。

3.如权利要求1所述的一种三维形貌测量的光路结构,其特征在于,还包括第一聚焦透镜(14);

经所述分束镜(13)分束后形成第一激光光束先经过所述第一聚焦透镜(14)准直后,入射至待测表面(30)。

4.如权利要求1所述的一种三维形貌测量的光路结构,其特征在于,还包括第二聚焦透镜(17);

经所述分束镜(13)分束后形成第二激光光束先经过所述第二聚焦透镜(17)准直后,入射至待测表面(30)。

5.如权利要求4所述的一种三维形貌测量的光路结构,其特征在于,还包括至少一个反射镜;

经所述分束镜(13)分束后形成的第二激光光束反射镜反射后入射至第二聚焦透镜(17)。

6.如权利要求5所述的一种三维形貌测量的光路结构,其特征在于,所述反射镜包括第一反射镜(15)和第二反射镜(16),第二激光光束先后经第一反射镜(15)和第二反射镜(16)反射后入射至第二聚焦透镜(17)。

7.如权利要求1所述的一种三维形貌测量的光路结构,其特征在于,所述第一激光光束和第二激光光束在待测表面的入射角度相同,且入射角度为60度。

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