[实用新型]一种真空镀膜机的遮挡装置

说明书

本实用新型公开了一种真空镀膜机的遮挡装置，所述遮挡装置安装于真空镀膜机的镀膜腔的上部，所述遮挡装置包括若干个固定于镀膜腔内壁上的支座，每个支座上均摆动安装有摆杆，所述摆杆上固定有用于部分遮挡镀膜腔上部镀膜区域的遮挡片，所述遮挡片径向延伸，遮挡片上具有用于遮挡外圈基片的外遮挡部和用于内圈基片的内遮挡部，外遮挡部的面积大于内遮挡部的面积，所述摆杆由偏摆动力装置驱动偏摆。该遮挡装置能够在镀膜的过程中选择性遮挡内圈基片和外圈基片的镀膜面积，从而使内圈基片和外圈的镀膜厚度尽可能均匀。

技术领域

本实用新型涉及一种遮挡装置，尤其涉及一种真空镀膜机的遮挡装置。

背景技术

真空镀膜机是半导体材料制作过程中一种常用的设备，目前主要有电子束蒸发法，其主要原理是在真空条件下利用电子束进行直接加热蒸发材料，使蒸发材料气化并向基片移动，在基底上凝结形成薄膜的方法。电子束蒸发沉积法可以制备高纯薄膜，同时在同一蒸发沉积装置中可以安置多个坩埚，实现同时或分别蒸发，沉积多种不同的物质。通过电子束蒸发，任何材料都可以被蒸发。电子束蒸发可以蒸发高熔点材料，蒸发热效率高、束流密度大、蒸发速度快，制成的薄膜纯度高、质量好，厚度可以较准确地控制，可以广泛应用于制备高纯薄膜和导电玻璃等各种光学材料薄膜。而目前的真空镀膜机主要包括镀膜腔，镀膜腔的顶部安装了自转架，基片放置在自转架上旋转，而镀膜腔的底部则放置了电子枪和坩埚，金属蒸发后沉积在自转架的基片上。然由于自转架上的基片是绕其旋转中心圆周布置的，因此，按照布置的直径不同，基片形成了内圈基片和外圈基片，而在单位时间内，内外圈基片行走的路径长度是不相同的，就会造成镀膜厚度的不均。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是：提供一种真空镀膜机的遮挡装置，该遮挡装置能够在镀膜的过程中选择性遮挡内圈基片和外圈基片的镀膜面积，从而使内圈基片和外圈的镀膜厚度尽可能均匀。

为解决上述技术问题，本实用新型的技术方案是：一种真空镀膜机的遮挡装置，所述遮挡装置安装于真空镀膜机的镀膜腔的上部，所述遮挡装置包括若干个固定于镀膜腔内壁上的支座，每个支座上均摆动安装有摆杆，所述摆杆上固定有用于部分遮挡镀膜腔上部镀膜区域的遮挡片，所述遮挡片径向延伸，遮挡片上具有用于遮挡外圈基片的外遮挡部和用于内圈基片的内遮挡部，外遮挡部的面积大于内遮挡部的面积，所述摆杆由偏摆动力装置驱动偏摆。

作为一种优选的方案，所述偏摆动力装置包括竖直安装于上腔体上的直线动力装置，所述直线动力装置的输出端固定有驱动齿条，所述摆杆的一端设置有与驱动齿条啮合的齿轮，所述支座上设置有限制摆杆摆动角度的限位结构。

作为一种优选的方案，所述限位结构包括设置于支座上的上限位块和下限位块，所述驱动齿条上设置有伸入到上限位块和下限位块之间的限位凸起。

作为一种优选的方案，所述遮挡片与摆杆之间通过若干个螺栓紧固件固定。

作为一种优选的方案，所述驱动齿条的顶部与直线动力装置的输出端焊接固定，所述驱动齿条的顶部设置有二次限位凸起。

作为一种优选的方案，所述支座的数量为四个且位于矩形的四个顶点。

作为一种优选的方案，所述直线动力装置为气缸，所述气缸固定于镀膜腔的上腔体顶部，所述上腔体的内部固定有保护套，所述支座连接于保护套的下端，所述气缸的活塞杆伸入到保护套内。