[实用新型]一种真空镀膜机的镀膜腔有效
| 申请号: | 202122444675.3 | 申请日: | 2021-10-12 |
| 公开(公告)号: | CN216192664U | 公开(公告)日: | 2022-04-05 |
| 发明(设计)人: | 杨涛;陆瑞珠 | 申请(专利权)人: | 江苏晋誉达半导体股份有限公司 |
| 主分类号: | C23C14/30 | 分类号: | C23C14/30;C23C14/56 |
| 代理公司: | 苏州金项专利代理事务所(普通合伙) 32456 | 代理人: | 金星 |
| 地址: | 215600 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 真空镀膜 镀膜 | ||
本实用新型公开了一种真空镀膜机的镀膜腔,包括腔体,所述腔体包括立式的中间腔体,中间腔体的底部固定有用于安装镀膜机的坩埚和电子枪的下腔体,中间腔体的顶部固定有用于自转架的上腔体,中间腔体的侧面设置有用于连接冷却腔室的冷却管接头,中间腔体的内壁上还可拆卸固定有若干块防护板,各防护板覆盖所述镀膜腔的整个内壁,所述镀膜腔的内壁和防护板之间还设置有电加热板,所述中间腔体的侧壁上设置有检修门。该真空镀膜机的镀膜腔能够在真空形成的过程中进行辅助加热,使镀膜腔内尽可能的干燥,同时对镀膜腔的内壁起到很好的防护。
技术领域
本实用新型涉及一种镀膜腔,尤其涉及一种真空镀膜机上的镀膜腔。
背景技术
真空镀膜机是半导体材料制作过程中一种常用的设备,目前主要有电子束蒸发法,其主要原理是在真空条件下利用电子束进行直接加热蒸发材料,使蒸发材料气化并向基片移动,在基底上凝结形成薄膜的方法。电子束蒸发沉积法可以制备高纯薄膜,同时在同一蒸发沉积装置中可以安置多个坩埚,实现同时或分别蒸发,沉积多种不同的物质。通过电子束蒸发,任何材料都可以被蒸发。电子束蒸发可以蒸发高熔点材料,蒸发热效率高、束流密度大、蒸发速度快,制成的薄膜纯度高、质量好,厚度可以较准确地控制,可以广泛应用于制备高纯薄膜和导电玻璃等各种光学材料薄膜。
例如专利号为202021011689.5公开了一种电子束蒸发台蒸发工艺腔体,这个腔体连接冷泵用来制冷提供真空,冷泵提供真空的原理是:冷泵的冷板温度降低,水份和气体就会附着在冷板上而冷凝成液态,此时冷板周围的气体减少,由于压差的作用,其他地方的气体会陆续向冷板移动,最终将整个腔体内的气体和水份都冷凝成液体,使其内部达到所需的真空度,然而结构存在以下缺点:
1、目前的这个工艺腔体在进行真空镀膜时,腔体的内壁上也都会镀上金属膜层,而工艺腔体的内部就会比较脏,难清理;
2、目前的这种工艺腔体是通过一个冷泵抽气管道连接,因此,当内部温度非常低,可能导致工艺腔体内部的一些水份会附着在一些隐藏的角落而不会被抽吸走,这样在进行蒸发时,这些水份就又会气化而直接影响真空镀膜的质量。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是:提供一种真空镀膜机的镀膜腔,该真空镀膜机的镀膜腔能够在真空形成的过程中进行辅助加热,使镀膜腔内尽可能的干燥,同时对镀膜腔的内壁起到很好的防护。
为解决上述技术问题,本实用新型的技术方案是:一种真空镀膜机的镀膜腔,包括腔体,所述腔体包括立式的中间腔体,所述中间腔体的底部固定有用于安装镀膜机的坩埚和电子枪的下腔体,所述中间腔体的顶部固定有用于自转架的上腔体,所述中间腔体的侧面设置有用于连接冷却腔室的冷却管接头,所述中间腔体的内壁上还可拆卸固定有若干块防护板,各防护板覆盖所述镀膜腔的整个内壁,所述镀膜腔的内壁和防护板之间还设置有电加热板,所述中间腔体的侧壁上设置有检修门。
作为一种优选的方案,所述镀膜腔的内壁上设置有若干个连接螺柱,每个电加热板和防护板上均设置有与连接螺柱对应的安装孔,所述连接螺柱贯穿电加热板和防护板上的所述安装孔后并通过螺母压紧。
作为一种优选的方案,所述的镀膜腔的侧壁上还设置有安装腔室,所述安装腔室上固定有冷头和与冷头相连接的冷凝板,所述冷凝板处于安装腔室内,所述安装腔室上滑动安装有将安装腔室封堵或打开的封堵防护板,该封堵防护板由开闭动力装置驱动。
作为一种优选的方案,所述检修门铰接于所述镀膜腔的外壁上,所述检修门上设置有观察视镜,所述检修门上还设置有操作窗口,所述检修门上铰接有将操作窗口关闭或打开的操作门。
作为一种优选的方案,所述下腔体包括下封板和底板,所述下封板位于底板的上方且两者通过支撑螺柱连接,所述坩埚和电子枪设置于底板和下封板之间,该下封板上设置有与坩埚位置对应的逸出孔,所述底板可拆卸固定于中间腔体的下端。
作为一种优选的方案,所述中间腔室或上腔室的侧壁上还设置有用于氮气供应系统联通的破空管接口。
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