[实用新型]一种陶瓷片上料装置

权利要求书

1.一种陶瓷片上料装置，其特征在于：包括底座、支架、陶瓷片上料机构和陶瓷片吸取机构，所述支架设置在底座上，所述支架内设有上料腔，所述上料腔设有上料口和出料口，所述上料腔内设置有陶瓷片上料机构，所述陶瓷片吸取机构设置在上料腔的出料口处；

所述陶瓷片上料机构包括上料板、气缸和第一滑槽，所述上料腔的两内侧分别设置有第一滑槽和气缸，所述上料板的两侧与第一滑槽滑动连接，所述气缸的气缸轴朝向出料口且与上料板连接，所述上料板上设有上端开口的陶瓷片容纳仓，所述陶瓷片容纳仓中可层叠若干块陶瓷片。

2.根据权利要求1所述的一种陶瓷片上料装置，其特征在于：所述支架内并列设有若干个上料腔，每个上料腔内并排设置有若干个陶瓷片上料机构，所述陶瓷片吸取机构设置在若干个上料腔的出料口处。

3.根据权利要求2所述的一种陶瓷片上料装置，其特征在于：所述陶瓷片吸取机构包括吸取组件、横向移动模组、第一升降模组和第二升降模组，所述支架的两侧分别设置有第一升降模组和第二升降模组，所述横向移动模组的两端分别与第一升降模组和第二升降模组活动连接，所述吸取组件活动设置在横向移动模组上。

4.根据权利要求1或2所述的一种陶瓷片上料装置，其特征在于：所述陶瓷片容纳仓由若干个均匀分布的支柱围设形成。

5.根据权利要求4所述的一种陶瓷片上料装置，其特征在于：所述支柱的底部设置有调节滑块，所述上料板上设有与调节滑块相对应的第二滑槽，所述支柱通过调节滑块活动设置在第二滑槽中。

6.根据权利要求5所述的一种陶瓷片上料装置，其特征在于：所述第二滑槽的一侧设有标尺。

7.根据权利要求1或2所述的一种陶瓷片上料装置，其特征在于：所述陶瓷片容纳仓与出料口之间设置有除静电毛刷。

8.根据权利要求1或2所述的一种陶瓷片上料装置，其特征在于：所述上料板朝向上料口的一侧设置有拉手。