[实用新型]泵环及薄膜沉积设备有效
| 申请号: | 202121505735.1 | 申请日: | 2021-07-02 |
| 公开(公告)号: | CN215947404U | 公开(公告)日: | 2022-03-04 |
| 发明(设计)人: | 陈广辉 | 申请(专利权)人: | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
| 代理公司: | 北京恒博知识产权代理有限公司 11528 | 代理人: | 范胜祥 |
| 地址: | 430205 湖北省武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 薄膜 沉积 设备 | ||
1.一种泵环,其特征在于,用于反应腔室;所述泵环包括环绕所述反应腔室的环本体,沿所述环本体的周向,所述环本体上开设有多个均气孔,所述均气孔沿所述环本体的径向贯穿所述环本体,所述均气孔用于将所述反应腔室与泵口连通,所述泵口位于所述反应腔室外、所述泵环的一侧;对于所述环本体上开设有所述均气孔的不同部位,越靠近所述泵口的部位,所述环本体的壁厚越大。
2.根据权利要求1所述泵环,其特征在于,对于所述环本体的不同部位上的均气孔,越靠近所述泵口,相邻的两个所述均气孔之间的间距越大。
3.根据权利要求1所述泵环,其特征在于,对于所述环本体的不同部位上的均气孔,越靠近所述泵口,所述均气孔的孔径越小。
4.根据权利要求1所述泵环,其特征在于,所述环本体的内环呈圆环状,所述环本体的外环呈椭圆环状,且越靠近所述泵口,所述环本体的壁厚越大。
5.根据权利要求1所述泵环,其特征在于,所述泵环还包括固定环,所述固定环与所述环本体连接,且环绕所述反应腔室设置,所述固定环与限定出所述反应腔室的部件固定连接。
6.根据权利要求5所述泵环,其特征在于,所述环本体与所述固定环一体成型。
7.一种薄膜沉积设备,其特征在于,包括至少一个反应腔室,每一所述反应腔室外对应设有泵口;其中,每一所述反应腔室经对应设置的、如权利要求1-6任一项所述的泵环上的均气孔,与对应的所述泵口连通。
8.根据权利要求7所述薄膜沉积设备,其特征在于,所述薄膜沉积设备还包括抽气泵,所述抽气泵与所述泵口连通。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





