[实用新型]一种真空蒸镀机的排气扇结构有效

专利信息
申请号: 202121473786.0 申请日: 2021-06-30
公开(公告)号: CN216947161U 公开(公告)日: 2022-07-12
发明(设计)人: 薛蒙晓 申请(专利权)人: 苏州佑伦真空设备科技有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/56
代理公司: 苏州彰尚知识产权代理事务所(普通合伙) 32336 代理人: 赵成磊
地址: 215000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 真空 蒸镀机 排气扇 结构
【说明书】:

本申请提供一种真空蒸镀机的排气扇结构,所述排气扇结构设置在真空蒸镀机的腔室与排气室之间,所述排气扇结构位于真空蒸镀机的腔室的后防着板的中下部,所述排气扇结构包括边框和设置在边框内部的排气扇部,所述排气扇部包含多个呈竖百叶型排列的排气片,所述排气片为薄片,所述排气片相对于从前向后方向的垂直面具有倾斜角a,所述多个排气片的倾斜角a的度数相同或者不相同,相邻的两个排气片之间,前一个排气片的右侧边与后一个排气片的左侧边在从左向右方向的垂直面上具有重合线或重合面。

技术领域

实用新型涉及真空蒸镀机技术领域,更具体地,涉及一种真空蒸镀机的排气扇结构。

背景技术

真空蒸镀机为在真空条件下,通过电流加热、电子束轰击加热和离子源轰击等方式,蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化,再使气化后的粒子飞至基片表面而凝结,最后形成薄膜。真空蒸镀具有成膜方法简单、薄膜纯度和致密性高、膜结构和性能独特等优点,因此得到广泛的应用。

在真空蒸镀的加工工艺中,在真空条件下采用坩埚气化镀膜材料,坩埚包括:蒸镀腔室、设置在蒸镀腔室内的蒸镀源(source),加热蒸镀源使蒸镀源蒸内的蒸镀材料经过加热发生汽化,以扇形的结构向上蒸发,坩埚上方具有用来承载被镀膜工件的伞状结构的镀锅,镀锅上固定有被镀膜工件,因此使得蒸镀材料分子沉积到被镀膜工件上形成镀膜。坩埚和镀锅都设置在真空蒸镀机的腔室内,腔室的后端与排气室连接,在抽真空的过程中,腔室内的空气排到排气室内,在腔室与排气室之间,现有技术设置有排气扇结构,但是现有技术的排气扇结构,腔室内的碎片等物理会穿过排气扇结构到达排气室进一步造成真空泵故障。

有鉴于此,本实用新型提供一种真空蒸镀机的排气扇结构,能够保证腔室与排气室之间的气流流通的同时,有效防止腔室内的碎片进入排气室,并且适用于各种类型的真空镀膜机,安装方便。

实用新型内容

本实用新型的目的在于,提供一种真空蒸镀机的排气扇结构,能够保证腔室与排气室之间的气流流通的同时,有效防止腔室内的碎片进入排气室,并且适用于各种类型的真空镀膜机,安装方便。

本申请的真空蒸镀机的排气扇结构,其排气扇部包含多个呈竖百叶型排列的排气片,排气片之间具有间隙,保证腔室与排气室之间的气流流通;同时,设计相邻的两个排气片之间,前一个排气片的右侧边与后一个排气片的左侧边在从左向右方向的垂直面上具有重合线或重合面,当相邻的两个排气片平行时,则相邻的两个排气片之间的间距小于等于后一个排气片的宽乘以Sina的乘积,有效防止了腔室内的碎片进入排气室(而现有技术的相邻的两个排气片之间的间距大于后一个排气片的宽乘以Sina的乘积,因此碎片能够进入排气室);进一步的,本申请针对小尺寸的正方形腔室和大尺寸的中空圆柱形腔室提供了两个排气片的排布方式,能够适用于各种类型的真空镀膜机;进一步的,所述排气扇结构通过葫芦状通孔和凸出板实现方便与安装及取下所述排气扇结构。本申请人在此基础上完成了本申请。

一种真空蒸镀机的排气扇结构,所述排气扇结构设置在真空蒸镀机的腔室与排气室之间,所述排气扇结构位于真空蒸镀机的腔室的后防着板的中下部,所述排气扇结构包括边框1和设置在边框1内部的排气扇部2,所述排气扇部2包含多个呈竖百叶型排列的排气片21,所述排气片21为薄片,所述排气片21相对于从前向后方向的垂直面具有倾斜角a,所述多个排气片21的倾斜角a的度数相同或者不相同,相邻的两个排气片21之间,前一个排气片21的右侧边与后一个排气片21的左侧边在从左向右方向的垂直面上具有重合线或重合面

在一些实施方式中,所述排气扇结构与真空蒸镀机的腔室的形状相对应,所述排气扇结构为正方形、长方形或圆弧形中的一种。

进一步的,真空蒸镀机的腔室为正方形或者长方形,所述排气扇结构为正方形或者长方形,真空蒸镀机的腔室为中空圆柱形,所述排气扇结构为圆弧形。

在一些实施方式中,所述多个排气片21的宽度相同或者不相同,所述多个排气片21的倾斜角a的度数相同。

进一步优选的,所述多个排气片21的宽度相同。

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