[实用新型]一种具有双坩埚结构的真空蒸镀机

说明书

本申请提供一种具有双坩埚结构的真空蒸镀机，所述真空蒸镀机的主腔体的底板上设置有坩埚结构，所述坩埚结构包括：坩埚部和加热源，所述坩埚用于盛放蒸镀材料，所述加热源用于将坩埚内的蒸镀材料从固态升华为气态，所述坩埚结构有两个，两个坩埚结构之间具有间距，两个坩埚结构设置在主腔体的底板的水平中心线上，真空蒸镀机的主腔室的上部设置有一个或多个镀锅，镀锅的形状为水平圆板或者为伞面状，坩埚结构镀膜时坩埚内的蒸镀材料以圆锥体的形状向上蒸发，其散射角为，在坩埚的中心垂直面上的向上蒸发的蒸镀材料的形状为散射面，两个坩埚结构的散射面的上表面之间的重合长度或者间距长度小于所述镀锅的直径的1/3。

技术领域

本实用新型涉及真空蒸镀机技术领域，更具体地，涉及一种具有双坩埚结构的真空蒸镀机。

背景技术

真空蒸镀机为在真空条件下，通过电流加热、电子束轰击加热和离子源轰击等方式，蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化，再使气化后的粒子飞至基片表面而凝结，最后形成薄膜。真空蒸镀具有成膜方法简单、薄膜纯度和致密性高、膜结构和性能独特等优点，因此得到广泛的应用。

在真空蒸镀的加工工艺中，在真空条件下采用坩埚气化镀膜材料，坩埚包括：蒸镀腔室、设置在蒸镀腔室内的蒸镀源，加热蒸镀源使蒸镀腔室内的蒸镀材料经过加热发生汽化，具有散射角，以圆锥体的形状向上蒸发，一种蒸镀材料具有固定的散射角，坩埚上方具有用来承载被镀膜工件的镀锅，镀锅上固定有被镀膜工件，因此使得蒸镀材料分子沉积到被镀膜工件上形成镀膜。在镀膜的过程中，蒸镀材料放置在坩埚内，电子枪发出的电子束经过偏转线圈的偏转作用，使得电子束轰击在坩埚中，使得蒸镀材料熔化和蒸发，现有技术的坩埚结构为一个，通常设置在真空蒸镀机的底板的中心处，该坩埚结构具有单穴或者多穴，尽管有多穴的结构，但是在镀膜的时候电子枪发出的电子束只能轰击一个穴(一个坩埚)里面的蒸镀材料，即一次只能蒸镀一种蒸镀材料，若想要镀膜含有多种材料，需要购买合金的蒸镀材料，但是这种合金蒸镀材料的成本高，并且购买的合金蒸镀材料的配比固定，需要不同的配比则需要购买各种不同配比的合金材料，因此成本很高。

有鉴于此，本实用新型提供一种具有双坩埚结构的真空蒸镀机，能够同时蒸镀两个穴(坩埚)里的蒸镀材料，并且能够控制两个坩埚内的蒸镀材料镀膜到被镀膜工件上的含量配比，降低成本。

实用新型内容

本实用新型的目的在于，提供一种具有双坩埚结构的真空蒸镀机，能够同时蒸镀两个穴(坩埚)里的蒸镀材料，并且能够控制两个坩埚内的蒸镀材料镀膜到被镀膜工件上的含量配比，降低成本。

本申请的具有双坩埚结构的真空蒸镀机，具有两个坩埚结构设置在主腔体的底板的水平中心线上，那么能够同时蒸发两种蒸镀材料，则不需要购买合金材料，而是通过镀膜的方式直接在被镀膜工件表面形成合金的膜层，降低了购买合金材料的成本，并且通过控制坩埚结构的参数，能够分别控制两个蒸镀材料镀膜到被镀膜工件上的含量配比，因此不需要购买不同配比的合金材料，而是通过设备及工艺实现，极大的降低了成本；另一方便，采用两个坩埚结构后镀锅的形状变为优选为水平圆板，颠覆了传统的镀锅的形状，并且，由于设置了两个镀锅结构，镀锅的高度、两个坩埚之间的距离及蒸镀材料的散射角之间需要注意一定的限制，才能使得镀膜均匀，具体为，两个坩埚结构2的散射面的上表面之间的重合长度或者间距长度小于所述镀锅3的直径的1/3。本申请人在此基础上完成了本申请。