[实用新型]一种具有双坩埚结构的真空蒸镀机

权利要求书

1.一种具有双坩埚结构的真空蒸镀机，所述真空蒸镀机的主腔体(1)的底板上设置有坩埚结构(2)，所述坩埚结构(2)包括：坩埚部(21)和加热源(22)，所述坩埚部(21)内设置有一个或者多个坩埚(211)，坩埚(211)为碗状凹陷的形状，所述坩埚(211)用于盛放蒸镀材料，所述加热源(22)用于将坩埚(211)内的蒸镀材料从固态升华为气态，其特征在于，所述坩埚结构(2)有两个，两个坩埚结构(2)之间具有间距，两个坩埚结构(2)设置在主腔体(1)的底板的水平中心线上，真空蒸镀机的主腔室的上部设置有一个或多个镀锅(3)，镀锅(3)的形状为水平圆板或者为伞面状，坩埚结构(2)镀膜时坩埚(211)内的蒸镀材料以圆锥体的形状向上蒸发，其散射角为a，在坩埚(211)的中心垂直面上的向上蒸发的蒸镀材料的形状为散射面，两个坩埚结构(2)的散射面的上表面之间的重合长度或者间距长度小于所述镀锅(3)的直径的1/3。

2.如权利要求1所述的具有双坩埚结构的真空蒸镀机，其特征在于，所述镀锅(3)的形状为水平圆板，镀锅(3)设置有1-3个，镀锅(3)到坩埚结构(2)的垂直距离为H。

3.如权利要求2所述的具有双坩埚结构的真空蒸镀机，其特征在于，调整镀锅(3)到坩埚结构(2)的垂直距离为H或/和调整两个坩埚结构(2)之间的距离，能够调整镀膜的均匀性。

4.如权利要求3所述的具有双坩埚结构的真空蒸镀机，其特征在于，两个坩埚结构(2)之间的距离等于2倍的H与tana的乘积，两个蒸镀材料的上表面的边界刚好相互接触；两个坩埚结构(2)之间的距离小于2倍的H与tana的乘积，两个蒸镀材料的上表面之间具有相互重合的部分，该重合部分的长度小于镀锅(3)之间的间距；两个坩埚结构(2)之间的距离大于2倍的H与tana的乘积，两个蒸镀材料的上表面之间具有间距，该间距小于镀锅(3)之间的间距。

5.如权利要求1所述的具有双坩埚结构的真空蒸镀机，其特征在于，所述主腔体(1)为中空正方体、中空长方体或者中空圆柱体中的一种。

6.如权利要求1所述的具有双坩埚结构的真空蒸镀机，其特征在于，所述坩埚部(21)内设置有多个坩埚(211)，所述坩埚(211)的数量为1-8个，所述坩埚部(21)为正方体、长方体、圆柱体中的一种。

7.如权利要求6所述的具有双坩埚结构的真空蒸镀机，其特征在于，所述坩埚部(21)具有1-2个坩埚(211)则坩埚部(21)为正方体或者长方体，所述坩埚部(21)具有的坩埚(211)的数量大于2个则坩埚部(21)为圆柱体。

8.如权利要求7所述的具有双坩埚结构的真空蒸镀机，其特征在于，所述坩埚部(21)为正方体或者长方体则坩埚部(21)不能够旋转，所述坩埚部(21)为圆柱体则坩埚部(21)能够旋转。

9.如权利要求1所述的具有双坩埚结构的真空蒸镀机，其特征在于，所述加热源(22)为电阻式加热源或者为热阻式加热源，蒸镀材料为金属材料则加热源(22)为热阻式加热源，蒸镀材料为油性材料加热源(22)为电阻式加热源。

10.如权利要求1所述的具有双坩埚结构的真空蒸镀机，其特征在于，在镀锅(3)与坩埚结构之间具有或者不具有修正结构(4)。