[实用新型]一种硅片的刻蚀装置

说明书

本实用新型公开了一种硅片的刻蚀装置，包括：片架、驱动组件、容器、加热件，驱动组件与片架连接并用于驱动片架沿竖向往复运动，容器开设有腐蚀槽，腐蚀槽位于片架的正下方，加热件位于容器的一侧或设置于容器中，加热件用于对加入腐蚀槽中的腐蚀液进行加热。通过驱动机构驱动片架带动硅片在腐蚀液中做往复运动，从而提高腐蚀液相对于硅片的流动速度，从而提高腐蚀液的腐蚀效果。

技术领域

本实用新型涉及硅片加工领域，特别涉及一种硅片的刻蚀装置。

背景技术

在芯片制造过程中，很多工步都需要对硅片进行刻蚀以获得设计图形。当采用湿法刻蚀时，为保证硅片表面均匀地刻蚀，需要使硅片和腐蚀液体充分接触，硅片不可能悬空在腐蚀液里，总要插在片架上再浸入腐蚀液，由于硅片与片架接触部分的间隙较小，这小部分面积附近的腐蚀液流动受到限制，使化学反应不能充分进行，于是腐蚀作用就不彻底，待腐蚀薄膜会留下残余，影响了产品的外观和性能。

实用新型内容

本申请通过提供一种硅片的刻蚀装置，从而提高硅片的刻蚀效果。

本申请实施例提供了一种硅片的刻蚀装置，包括：

片架；

驱动组件，所述驱动组件与所述片架连接并用于驱动所述片架沿竖向往复运动；

容器，所述容器开设有腐蚀槽，所述腐蚀槽位于所述片架的正下方；

加热件，所述加热件位于所述容器的一侧，所述加热件用于对加入所述腐蚀槽中的腐蚀液进行加热。

在上述技术方案的基础上，本实用新型还可以做如下改进：

进一步地：还包括：支撑件，所述驱动组件安装于所述支撑件上，所述容器设置于所述支撑件的下方。

进一步地：所述驱动组件包括：驱动件、轮体一、杆一、杆二，所述驱动件安装于所述支撑件，所述轮体一与所述驱动件连接，所述杆一的一端铰接于所述轮体一，所述杆一的另一端与所述杆二铰接，所述杆二沿竖向滑动插设于所述支撑件上。

进一步地：驱动组件还包括：导向套，所述导向套连接于所述杆二，所述导向套滑动插设于所述支撑件。本步的有益效果：通过导向套提高机构运动的稳定性。

进一步地：驱动组件还包括皮带、轮体二、支座，所述支座安装于所述支撑件，所述轮体一转动安装于所述支座，所述轮体二安装于所述驱动件，所述皮带绕设于所述轮体二与所述轮体一之间。

进一步地：所述轮体二的直径小于轮体一的直径。本步的有益效果：通过该种结构实现降速转动，从而提高片架运动的平稳性。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果在于：通过驱动机构驱动片架带动硅片在腐蚀液中做往复运动，从而提高腐蚀液相对于硅片的流动速度，从而提高腐蚀液的腐蚀效果。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。在所有附图中，类似的元件或部分一般由类似的附图标记标识。附图中，各元件或部分并不一定按照实际的比例绘制。

图1为本实用新型的结构示意图。

其中，

1片架；

2驱动组件，201驱动件，202轮体一，203杆一，204杆二，205导向套，206皮带，207轮体二，208支座；

3容器，301腐蚀槽；

4加热件，401板块，402加热体；

5支撑件。

具体实施方式