[实用新型]一种适用于管式PECVD设备的炉门缓冲机构有效
申请号: | 202120701283.8 | 申请日: | 2021-04-07 |
公开(公告)号: | CN215628288U | 公开(公告)日: | 2022-01-25 |
发明(设计)人: | 仲冕;李旺鹏;王玉明 | 申请(专利权)人: | 苏州拓升智能装备有限公司 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50 |
代理公司: | 北京远大卓悦知识产权代理有限公司 11369 | 代理人: | 张川 |
地址: | 215000 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 适用于 pecvd 设备 炉门 缓冲 机构 | ||
1.一种适用于管式PECVD设备的炉门缓冲机构,其特征在于,包括:驱动模组(11);
转接模组(12),其与所述驱动模组(11)传动连接;以及
炉门模组(13),其与所述转接模组(12)固定连接;
其中,所述炉门模组(13)包括:炉门(131);以及
支架(132),其固定安装于所述炉门(131)的前端;
所述炉门(131)与所述支架(132)之间设有至少两个弹性件(133)。
2.如权利要求1所述的适用于管式PECVD设备的炉门缓冲机构,其特征在于,所述炉门(131)的表面设置有至少两个支柱部(1311),所述支柱部(1311)沿与所述炉门(131)竖直的方向延伸,且所述支柱部(1311)规则阵列;
每个所述弹性件(133)套接于相应一个所述支柱部(1311)表面。
3.如权利要求2所述的适用于管式PECVD设备的炉门缓冲机构,其特征在于,所述支架(132)包括:连接部(1321),其与所述转接模组(12)固定连接;以及
至少两个固定部(1322),每个所述固定部(1322)一体式的结合于所述连接部(1321)的外周且沿所述连接部(1321)的外周向外延伸;
每个所述固定部(1322)与相应一个所述支柱部(1311)固定连接。
4.如权利要求1所述的适用于管式PECVD设备的炉门缓冲机构,其特征在于,所述驱动模组(11)包括:X向驱动器(111),其沿X轴方向设置;以及
Y向驱动器(112),其沿Y轴方向设置,且所述Y向驱动器(112)与所述X向驱动器(111)的动力输出端传动连接,所述Y向驱动器(112)的动力输出端与所述转接模组(12)传动连接;
其中,所述X向驱动器(111)驱动所述炉门(131)沿X轴方向往复运动,所述Y向驱动器(112)驱动所述炉门(131)沿Y轴方向往复运动。
5.如权利要求4所述的适用于管式PECVD设备的炉门缓冲机构,其特征在于,所述X向驱动器(111)沿Y轴方向的两侧均设有第一导向导轨(113),所述第一导向导轨(113)的活动部与所述Y向驱动器(112)传动连接。
6.如权利要求5所述的适用于管式PECVD设备的炉门缓冲机构,其特征在于,所述第一导向导轨(113)的沿X轴方向两侧端部设有至少两个第一限位件(1131)。
7.如权利要求4所述的适用于管式PECVD设备的炉门缓冲机构,其特征在于,所述Y向驱动器(112)的旁侧设有第二导向导轨(114),所述第二导向导轨(114)的活动部与所述转接模组(12)传动连接。
8.如权利要求7所述的适用于管式PECVD设备的炉门缓冲机构,其特征在于,所述第二导向导轨(114)沿Y轴方向两侧端部设有至少两个第二限位件(1141)。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的