[实用新型]一种样品托、样品托组件及等离子体化学气相沉积设备

说明书

本实用新型提供了一种样品托、样品托组件及等离子化学气相沉积设备，属于等离子体设备领域。样品托组件包括基底及样品托，基体上设置有安装凹槽，样品托固定设置在安装凹槽中。上述样品托包括一体成型的样品托本体及导热凸台，导热凸台设置在样品托本体的底面。使用时，导热凸台与基底直接或间接接触。由于样品托中心温度高于边缘温度，而样品托中心的热量可以通过导热凸台传递到基底上，进而提高样品托的温度均匀性，提高固态膜的品质。

技术领域

本实用新型涉及等离子体化学气相沉积设备领域，具体而言，涉及一种样品托、样品托组件及等离子化学气相沉积设备。

背景技术

等离子体化学气相沉积是指用等离子体激活反应气体，促进在样品基片表面或近表面空间进行化学反应，生成固态膜的技术。而样品基片需要放置于真空腔的样品托上，由于样品托附近产生大量的热，因此需要对样品托进行散热。另外，现有的样品托的温度均匀性较差，其直接影响到固态膜的品质；因此，需要尽量提高样品托温度均匀性。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供了一种样品托，其能够通过在中部设置导热凸台，从而便于将温度较高的样品托中部的热量传递出去，进而提高样品托的温度均匀性。

本实用新型的另一目的在于提供一种样品托组件，其采用了上述样品托，样品托中部的热量能够通过导热凸台传递到基底上，从而提高样品托的温度均匀性。

本实用新型的另一目的在于提供一种等离子体化学气相沉积设备，其采用了上述样品托及样品托组件。

本实用新型是这样实现的：

一种样品托，所述样品托包括样品托本体及导热凸台，所述导热凸台设置在所述样品托本体底面的中部；所述样品托本体底面上还设置有环形槽，所述环形槽围绕所述凸台延伸。

进一步，所述样品托本体底面上设置有多个所述环形槽，由外向内多个所述环形槽的宽度或/和深度逐渐减小。

进一步，所述样品托本体的底面为圆形面，所述底面的边缘设置有环形凸部。

进一步，所述样品托本体为回转体，所述样品托本体的母线包括内凹曲线。

一种样品托组件，所述样品托组件包括基底及所述的样品托，所述基底上设置有安装凹槽，所述样品托安装在所述安装凹槽中。

进一步，所述基底设置有冷却通道。

进一步，所述冷却通道为螺旋形。

进一步，还包括过渡托，所述过渡托为圆形板状结构，所述过渡托设置在所述基底与所述样品托本体之间。

进一步，所述基底采用无氧铜材质。

一种等离子体化学气相沉积设备，包括所述的样品托或所述的样品托组件。

本实用新型的有益效果是：

本实用新型通过上述设计得到的样品托、样品托组件及等离子体化学气相沉积设备，使用时，导热凸台与基底直接或间接接触。由于样品托中心温度高于边缘温度，而样品托中心的热量可以通过导热凸台传递到基底上，进而提高样品托的温度均匀性，提高固态膜的品质。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施方式的技术方案，下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本实用新型的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

图1是本实用新型实施例提供的样品托组件的轴侧图；

图2是本实用新型实施例提供的样品托组件的主视图；

图3是本实用新型实施例提供的样品托组件的剖视图；