[实用新型]一种晶圆去胶机有效

专利信息
申请号: 202120167822.4 申请日: 2021-01-21
公开(公告)号: CN214203627U 公开(公告)日: 2021-09-14
发明(设计)人: 陈康;刘四化;王宜 申请(专利权)人: 无锡瑞达半导体专用设备有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 南京常青藤知识产权代理有限公司 32286 代理人: 毛洪梅
地址: 214064 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 晶圆去胶机
【说明书】:

实用新型公开了一种晶圆去胶机,包括底部移动装置、主体和工作机构,所述底部移动装置上方与主体连接,所述主体上方连接有工作机构,所述工作机构包括工作台、U型放置件和第一支撑框,其中:所述工作台上方连接有第一支撑框,所述第一支撑框内部位于工作台上方连接有U型放置件,所述U型放置件的底部设有加热件,所述U型放置件的U型槽底部两边连接有支撑杆,所述支撑杆上方连接有导热块,所述U型放置件的U型槽底部设有第一通孔,所述第一通孔上连接有软垫。本实用新型结构简单、操作方便、降低劳动强度、提高工作效率。

技术领域

本实用新型属于情节设备技术领域,具体涉及一种晶圆去胶机。

背景技术

晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片,由于其形状为圆形,故称为晶圆;

在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构,而成为有特定电性功能之IC 产品。晶圆的原始材料是硅,而地壳表面有用之不竭的二氧化硅。二氧化硅矿石经由电弧炉提炼,盐酸氯化,并经蒸馏后,制成了高纯度的多晶硅,其纯度高达99.999999999%。

现有技术存在的问题是:现有的双晶圆反应腔去胶机在使用时去胶效率比较低,大大影响了对双晶圆的去胶效率;现有的双晶圆反应腔去胶机在使用过程中,除胶剂喷涂量过多,将会对双晶圆表面造成伤害。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种晶圆去胶机,结构简单,操作方便。

本实用新型提供了如下的技术方案:一种晶圆去胶机,包括底部移动装置、主体和工作机构,所述底部移动装置上方与主体连接,所述主体上方连接有工作机构,所述工作机构包括工作台、U型放置件和第一支撑框,其中:所述工作台上方连接有第一支撑框,所述第一支撑框内部位于工作台上方连接有U型放置件,所述U型放置件的底部设有加热件,所述U型放置件的U型槽底部两边连接有支撑杆,所述支撑杆上方连接有导热块,所述U型放置件的U型槽底部设有第一通孔,所述第一通孔上连接有软垫,所述第一支撑框内顶壁连接有第一伸缩杆和第二伸缩杆,所述第一伸缩杆下方连接有第二支撑框,所述第二支撑框内顶壁连接有第三气缸和第四气缸,所述第三气缸下方连接有第一电机,所述第一电机下方连接有清洁刷,所述第四气缸下方连接有第二电机,所述第二电机下方连接有棉刷,所述第二伸缩杆下方连接有储存箱,所述储存箱下方连接有第三支撑框,所述第三支撑框的内顶部连接有加热管和蒸汽片,所述主体上端远离储存箱一侧连接有支撑板,所述支撑板上方连接有第二气缸,所述第二气缸端部连接有缓冲件。

所述底部移动装置包括底板、万向轮、弹簧杆和底座,其中:所述底板下方连接有万向轮,所述底板上方连接有弹簧杆,所述弹簧杆上方连接有底座,所述底座的四个侧面均设有第二通孔,所述通孔内固定套接有第一气缸,所述第一气缸的伸出杆指向底座中部,所述第一气缸的伸出杆端部连接有夹板,所述主体由夹板进行夹紧。

优选的,所述第二伸缩杆位于第一伸缩杆远离支撑板一侧。

优选的,所述第四气缸位于第三气缸靠近储存箱一侧。

优选的,所述工作台上设有与第二通孔相配合的第三通孔。

本实用新型的有益效果为:能够提高装置的去胶效率,同时能够防止胶剂喷涂量过多,对双晶圆表面造成伤害。

附图说明

附图用来提供对本实用新型的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的限制。在附图中:

图1是本实用新型结构示意图。

图2是本实用新型装置中第一气缸的安装结构示意图;

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