[发明专利]一种模型理论光谱计算方法和装置在审
申请号: | 202111602467.X | 申请日: | 2021-12-24 |
公开(公告)号: | CN114329948A | 公开(公告)日: | 2022-04-12 |
发明(设计)人: | 张晓雷;张厚道;施耀明 | 申请(专利权)人: | 上海精测半导体技术有限公司 |
主分类号: | G06F30/20 | 分类号: | G06F30/20 |
代理公司: | 上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286 | 代理人: | 黄海霞 |
地址: | 201700 上海市青浦区*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 模型 理论 光谱 计算方法 装置 | ||
1.一种模型理论光谱计算方法,其特征在于,该方法包括:
建立样品形貌模型,并建立XOZ平面坐标系;
获取所述样品形貌模型在所述XOZ平面坐标系的平面轮廓;
在所述平面轮廓上获取多个采样点,并根据多个采样点构成初始点集;
根据所述初始点集得到Z坐标分层值集合;
根据所述Z坐标分层值集合计算理论光谱。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述平面轮廓包括直线段和/或曲线段;
所述采样点包括所述直线段的端点和/或所述曲线段的端点及所述曲线段的间隔点,所述曲线段的间隔点通过以第一预设步长在所述曲线段上获取。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述根据所述初始点集得到Z坐标分层值集合,包括:
根据所述初始点集得到Z坐标粗分值集合,根据所述Z坐标粗分值集合得到粗分片层;
对于各个所述粗分片层,以第二预设步长、二分法或经验值分成若干细分片层;
根据各个所述细分片层获取Z坐标细分值集合,将所述Z坐标粗分值集合和所述Z坐标细分值集合合并得到所述Z坐标分层值集合。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,根据各个所述细分片层获取Z坐标细分值集合,包括:
获取各个所述细分片层的四个顶点在所述平面坐标系的坐标,所述细分片层包括沿Z方向分布的上边线和下边线,以及沿X方向分布的第一侧边线和第二侧边线,分别计算各个所述细分片层的第一侧边线的斜率的绝对值和第二侧边线的斜率的绝对值;
若两个所述斜率的绝对值均大于第一阈值,则舍弃所述细分片层相应的所述顶点;
若至少一个所述斜率的绝对值小于或等于所述第一阈值,则将该所述细分片层相应的所述顶点作为细分采样点;
基于所述细分采样点的Z坐标值得到所述细分值集合。
5.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,根据各个所述细分片层获取Z坐标细分值集合,包括:
获取各个所述细分片层的四个顶点在所述平面坐标系的坐标,所述细分片层包括沿Z方向分布的上边线和下边线,以及沿X方向分布的第一侧边线和第二侧边线,以所述上边线上的两个顶点分别做X方向的垂线,所述垂线、所述下边线,所述第一侧边线和所述第二侧边线形成两个三角形,计算所述两个三角形的面积;
获取两个所述三角形的面积中的较大值;
若所述较大值小于或等于第二阈值,则舍弃该所述细分片层相应的所述顶点;
若所述较大值大于所述第二阈值,则将该所述细分片层相应的所述顶点作为细分采样点;
基于所述细分采样点的Z坐标值得到所述细分值集合。
6.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,根据所述初始点集得到Z坐标粗分值集合,包括:
将所述初始点集中的采样点以顺时针或逆时针排序,并计算所述初始点集中所有相邻两个采样点的斜率的绝对值;
若所述斜率的绝对值小于或等于第三阈值,或所述斜率的绝对值大于或等于第四阈值,则将该两个所述采样点作为粗分采样点;
若所述斜率的绝对值大于所述第三阈值,且小于所述第四阈值,则舍弃该两个所述采样点;
基于所述粗分采样点的Z坐标值得到所述Z坐标粗分值集合。
7.一种模型理论光谱计算装置,其特征在于,该装置包括:
建模单元,用于建立样品形貌模型,并建立XOZ平面坐标系;
获取单元,用于获取所述样品形貌模型在所述XOZ平面坐标系的平面轮廓;在所述平面轮廓上获取多个采样点,并根据多个采样点构成初始点集;
计算单元,用于根据所述初始点集得到Z坐标分层值集合,根据所述Z坐标分层值集合计算理论光谱。
8.根据权利要求7所述的装置,其特征在于,所述平面轮廓包括直线段和/或曲线段;
所述获取单元,获取所述采样点包括所述直线段的端点和/或所述曲线段的端点及所述曲线段的间隔点,所述曲线段的间隔点通过以第一预设步长在所述曲线段上获取。
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