[发明专利]一种超低温静电吸盘

权利要求书

1.一种超低温静电吸盘，其特征在于，其用于超低温离子注入平台，所述超低温静电吸盘包括静电吸盘主体(311)，静电吸盘主体(311)为圆盘状或板状，超低温静电吸盘至少为四层以上结构。

2.根据权利要求1所述的超低温静电吸盘，其特征在于，四层以上结构至少包括自下而上排列的静电吸盘主体(311)、第一印刷电极柔性层(312)、电极排列(313)或粘接填充层(314)、第二印刷电极柔性层(315)。

3.根据权利要求2所述的超低温静电吸盘，其特征在于，第一印刷电极柔性层(312)上表面紧贴电极排列(313)，或电极排列(313)紧贴在第二印刷电极柔性层(315)下表面。

4.根据权利要求2所述的超低温静电吸盘，其特征在于，电极排列(313)印制在第一印刷电极柔性层(312)上表面，或电极排列(313)印制在第二印刷电极柔性层(315)下表面。

5.根据权利要求1所述的超低温静电吸盘，其特征在于，第一印刷电极柔性层(312)为介电质膜，第二印刷电极柔性层(315)为介电质膜。

6.根据权利要求2所述的超低温静电吸盘，其特征在于，介电质膜为聚酰亚胺薄膜，聚酰亚胺薄膜膜厚为15微米至100微米中之任一厚度。

7.根据权利要求2所述的超低温静电吸盘，其特征在于，静电吸盘主体(311)通过胶层与第一印刷电极柔性层(312)粘接固定。

8.根据权利要求2所述的超低温静电吸盘，其特征在于，第一印刷电极柔性层(312)上远离静电吸盘主体(311)的一面上设置有至少2组电极排列(313)

9.根据权利要求2所述的超低温静电吸盘，其特征在于，静电吸盘主体(311)下部设置有真空冷却平台(31)，真空冷却平台(31)柔性接触静电吸盘主体(311)，真空冷却平台(31)用于将待处理的晶圆进行降温，确保待处理的晶圆处于一个低温状态。

10.根据权利要求9所述的超低温静电吸盘，其特征在于，将铟薄片或将退火之后的铝薄片充填在真空冷却平台(31)和静电吸盘主体(311)之间，实现真空冷却平台(31)柔性接触静电吸盘主体(311)。