[发明专利]化合物氟硼酸钾铯碘和氟硼酸钾铯碘非线性光学晶体及制备方法和用途有效

专利信息
申请号: 202111533641.X 申请日: 2021-12-15
公开(公告)号: CN114197043B 公开(公告)日: 2023-07-25
发明(设计)人: 潘世烈;闫玉臣;张敏 申请(专利权)人: 中国科学院新疆理化技术研究所
主分类号: C30B29/10 分类号: C30B29/10;C30B11/00;C30B28/06;G02F1/355;G02F1/37;G02F1/39
代理公司: 乌鲁木齐中科新兴专利事务所(普通合伙) 65106 代理人: 张莉
地址: 830011 新疆维吾尔*** 国省代码: 新疆;65
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摘要:
搜索关键词: 化合物 硼酸 钾铯碘 非线性 光学 晶体 制备 方法 用途
【权利要求书】:

1.一种化合物氟硼酸钾铯碘,其特征在于该化合物的化学式为Cs2KB8O12F2I,分子量为748.40,采用真空封管制成。

2.根据权利要求1所述的化合物氟硼酸钾铯碘的制备方法,其特征在于采用真空封管制成,具体操作按下列步骤进行:

按摩尔比Cs∶K∶B:I:F=1-3∶1-2∶3-5:1-2:1-2将含Cs化合物、含I化合物、含K化合物、含B化合物和含F化合物混合均匀,装入Φ40mm的石英管中,将石英管抽真空,真空度达到1×10−3Pa,高温下火焰密封,放入马弗炉中,以10-50℃/h的速率升温300-500℃,保温1-10天,缓慢降温,即得到化合物Cs2KB8O12F2I,其中含Cs化合物为CsI、CsBF4或CsF,含K化合物为KI、KF或KBF4,含B化合物为H3BO3或B2O3,含I化合物为CsI、KI、LiI、NaI或RbI,含F化合物为CsBF4、CsF、KF或KBF4。

3.一种氟硼酸钾铯碘非线性光学晶体,其特征在于该晶体的化学式为Cs2KB8O12F2I,分子量为748.40,属于三方晶系,空间群为R32单胞参数为a = 6.5911(1) Å, b = 6.5911(1) Å, c = 30.6160(11) Å, Z = 3。

4.根据权利要求3所述的氟硼酸钾铯碘非线性光学晶体的制备方法,其特征在于采用真空封管制备晶体,具体操作按下列步骤进行:

a、按摩尔比Cs∶K∶B:I:F=1-3∶1-2∶3-5:1-2:1-2将含Cs化合物、含I化合物、含K化合物、含B化合物和含F化合物混合均匀,置于研钵中研磨10分钟,使混合物充分混合,其中所述含Cs化合物CsI、CsBF4或CsF,含K化合物为KI、KF或KBF4,含B化合物为H3BO3或B2O3,含I化合物为CsI、KI、LiI、NaI或RbI, 含F化合物为CsBF4、CsF、KF或KBF4;

b、将步骤a中的混合物装入Φ40mm的石英管中,将石英管抽真空,真空度达到1×103Pa,高温下火焰密封,放入马弗炉中,以10-50℃/h的速率升温300—500摄氏度,保温1-10天,再以0.1-2℃/小时的降温速率降至室温,切开石英管,即获得氟硼酸钾铯碘非线性光学晶体。

5.根据权利要求3所述的氟硼酸钾铯碘非线性光学晶体在制备倍频发生器、光参量振荡器中的用途。

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