[发明专利]一种ITO蚀刻液及其制备方法、应用方法有效
| 申请号： | 202111519658.X | 申请日： | 2021-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN114507529B | 公开（公告）日： | 2023-08-08 |
| 发明（设计）人： | 王维;潘春林;李自杰;林秋玉 | 申请（专利权）人： | 福建中安高新材料研究院有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/06 | 分类号： | C09K13/06;H01L21/3213 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 李珊珊 |
| 地址： | 350003 福建省福州市鼓楼区软*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 ito 蚀刻 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种ITO蚀刻液，其特征在于，所述ITO蚀刻液包括以下重量份数的各组分：20-22份的盐酸，6-7份的硝酸，0.5-3份的酸抑制剂，0.5-3份的表面活性剂，有机酸以及水；其中，所述酸抑制剂包括N,N-二异丙基乙胺、N,N-二异丙基乙醇胺中的至少一种；所述表面活性剂包括聚氧乙烯脂肪胺、聚氧乙烯脂肪二胺中的至少一种；
其中，所述有机酸包括乙二胺四丙酸、二乙基三胺五乙酸、脂肪族磺酸、脂肪族亚磺酸、柠檬酸中的至少一种。
2.根据权利要求1所述的ITO蚀刻液，其特征在于，所述酸抑制剂与所述硝酸的质量比为1：(4-10)。
3.根据权利要求1所述的ITO蚀刻液，其特征在于，所述表面活性剂与所述酸抑制剂的质量比为1:(1-3)。
4.根据权利要求1所述的ITO蚀刻液，其特征在于，所述ITO蚀刻液还包括无机氯化物，所述无机氯化物包括氯化铁、氯化铵、氯化钾中的至少一种。
5.根据权利要求1所述的ITO蚀刻液，其特征在于，所述ITO蚀刻液还包括稳定剂，所述稳定剂包括氨基磺酸、氨基磺酸衍生物中的至少一种。
6.一种ITO蚀刻液的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
将硝酸、盐酸、酸抑制剂、表面活性剂及水按比例混合，得到ITO蚀刻液；所述ITO蚀刻液包括以下重量份数的各组分：20-22份的盐酸，6-7份的硝酸，0.5-3份的酸抑制剂，0.5-3份的表面活性剂，有机酸以及水；其中，所述酸抑制剂包括N,N-二异丙基乙胺、N,N-二异丙基乙醇胺中的至少一种；所述表面活性剂包括聚氧乙烯脂肪胺、聚氧乙烯脂肪二胺中的至少一种；所述有机酸包括乙二胺四丙酸、二乙基三胺五乙酸、脂肪族磺酸、脂肪族亚磺酸、柠檬酸中的至少一种。
7.一种ITO蚀刻液的应用方法，其特征在于，包括以下步骤：
将如权利要求1-5任一项所述的ITO蚀刻液或者根据权利要求6所述的制备方法制得的ITO蚀刻液与表面设有ITO膜的基板接触，以将所述ITO膜蚀刻。
8.根据权利要求7所述的应用方法，其特征在于，所述蚀刻的时间为60s-100s，所述蚀刻的温度为30℃-45℃。
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