[发明专利]脉冲序列生成方法、控制方法、装置、系统及设备

说明书

本公开提供了一种基于离子阱的脉冲序列生成方法、控制方法、装置、系统及设备，涉及数据处理领域，尤其涉及量子计算领域。具体实现方案为：确定对当前激光信号的振幅和相位进行切片处理所需的切片数量N，进行切片处理，得到N个振幅切片和N个相位切片所形成的第一对称脉冲序列；其中，所述N个振幅切片满足第一对称关系，所述N个相位切片满足第二对称关系；模拟所述第一对称脉冲序列施加于离子阱的预设离子量子比特上，以得到第一近似量子比特门；在至少所述第一近似量子比特门与目标量子比特门之间的差异程度满足预设条件的情况下，将当前的所述第一对称脉冲序列作为目标脉冲序列。如此，来提升本公开方案的抗干扰能力。

技术领域

本公开涉及数据处理技术领域，尤其涉及量子计算领域。

背景技术

近些年来，离子阱量子计算平台迅速发展，离子阱芯片的性能也呈现爆炸式增长。衡量量子芯片性能的指标，如量子体积在离子阱芯片上，从512量子体积很快地增长到400多万量子体积。离子阱量子计算平台已经在小规模分子模拟和量子特性的演示上展现了较好的效果。可以说，目前离子阱量子计算平台已经踏入中等噪声规模量子计算时代，未来将有更多的量子计算应用会在离子阱量子计算硬件上得以演示和验证。

发明内容

本公开提供了一种基于离子阱的脉冲序列生成方法、控制方法、装置、系统及设备。

根据本公开的一方面，提供了一种基于离子阱的脉冲序列生成方法，包括：

确定对当前激光信号的振幅和相位进行切片处理所需的切片数量N，进行切片处理，得到N个振幅切片和N个相位切片所形成的第一对称脉冲序列；其中，所述N个振幅切片满足第一对称关系，所述N个相位切片满足第二对称关系；N为大于等于2的整数；

模拟所述第一对称脉冲序列施加于离子阱的预设离子量子比特上，以得到第一近似量子比特门；

在至少所述第一近似量子比特门与目标量子比特门之间的差异程度满足预设条件的情况下，将当前的所述第一对称脉冲序列作为目标脉冲序列。

根据本公开的另一方面，提供了一种基于离子阱的脉冲序列控制方法，包括：

将目标脉冲序列施加于离子阱的预设离子量子比特上；其中，所述目标脉冲序列为以上方法所得到的脉冲序列；

测量得到目标近似量子比特门，其中，所述目标近似量子比特门与目标量子比特门之间的差异程度满足预设条件。

根据本公开的再一方面，提供了一种基于离子阱的脉冲序列生成装置，包括：

脉冲序列生成单元，用于确定对当前激光信号的振幅和相位进行切片处理所需的切片数量N，进行切片处理，得到N个振幅切片和N个相位切片所形成的第一对称脉冲序列；其中，所述N个振幅切片满足第一对称关系，所述N个相位切片满足第二对称关系；N为大于等于2的整数；

模拟计算单元，用于模拟所述第一对称脉冲序列施加于离子阱的预设离子量子比特上，以得到第一近似量子比特门；

结果输出单元，用于在至少所述第一近似量子比特门与目标量子比特门之间的差异程度满足预设条件的情况下，将当前的所述第一对称脉冲序列作为目标脉冲序列。

根据本公开的再一方面，提供了一种基于离子阱的脉冲序列控制系统，包括：

离子阱；

激光发射器，用于将目标脉冲序列施加于离子阱的预设离子量子比特上；其中，所述目标脉冲序列为以上脉冲序列生成方法所得到的脉冲序列；

测量设备，用于测量得到目标近似量子比特门，其中，所述目标近似量子比特门与目标量子比特门之间的差异程度满足预设条件。

根据本公开的再一方面，提供了一种电子设备，包括：

至少一个处理器；以及