[发明专利]一种表面设有复合镀层的钕铁硼磁体及其制备工艺

权利要求书

1.一种表面设有复合镀层的钕铁硼磁体，其特征在于，包括钕铁硼基体及电镀在其表面的复合镀层；所述复合镀层的结构依次为镀锌镍合金层、镀铜层、镀镍层和镀锡层；所述镀锌镍合金层为直接电镀在所述钕铁硼基体的表面。

2.根据权利要求1所述的一种表面设有复合镀层的钕铁硼磁体，其特征在于，所述复合镀层还包括铝涂层，所述铝涂层采用冷喷涂的方式涂在所述镀锡层的表面。

3.根据权利要求2所述的一种表面设有复合镀层的钕铁硼磁体，其特征在于，所述复合镀层还包括氧化铝钝化层，采用浸镀方式，在所述铝涂层的表面形成氧化铝钝化层。

4.根据权利要求3所述的一种表面设有复合镀层的钕铁硼磁体，其特征在于，所述镀锌镍合金层的厚度为0.06微米~3微米。

5.根据权利要求4所述的一种表面设有复合镀层的钕铁硼磁体，其特征在于，所述镀锌镍合金层中镍含量为1%~8%。

6.根据权利要求5所述的一种表面设有复合镀层的钕铁硼磁体，其特征在于，所述镀锡层的厚度为0.1微米~0.3微米。

7.一种表面设有复合镀层的钕铁硼磁体的制备工艺，其特征在于，包括如下步骤：

步骤S1、对钕铁硼基体进行预处理；

步骤S2、在所述钕铁硼基体的表面电镀镀锌镍合金层；

步骤S3、在所述镀锌镍合金层的表面电镀铜，形成镀铜层；

步骤S4、在所述镀铜层的表面电镀镍，形成镀镍层；

步骤S5、在所述镀镍层的表面电镀锡，形成镀锡层。

8.根据权利要求7所述的一种表面设有复合镀层的钕铁硼磁体的制备工艺，其特征在于，还包括步骤S6；

步骤S6、在所述镀锡层的表面冷喷涂铝粉，形成铝涂层。

9.根据权利要求8所述的一种表面设有复合镀层的钕铁硼磁体的制备工艺，其特征在于，还包括步骤S7；

步骤S7、将所述钕铁硼基体放入硝酸钝化液里，在所述铝涂层的表面形成氧化铝钝化层。

10.根据权利要求9所述的一种表面设有复合镀层的钕铁硼磁体的制备工艺，其特征在于，还包括步骤S8；

步骤S8、用纯水清洗钕铁硼基体的表面，进行烤干。