[发明专利]一种金属材料不同深度氢及其同位素含量检测装置及方法

权利要求书

1.一种金属材料不同深度氢及其同位素含量检测装置，其特征在于：包括真空腔体，所述真空腔体内设置有样品台，所述样品台用于固定样品，并控制样品温度及位置；所述真空腔体侧壁上设置有与样品呈角度的氩离子枪和检测装置，所述氩离子枪和检测装置能够以样品所在平面进行镜面反射。

2.根据权利要求1所述的金属材料不同深度氢及其同位素含量检测装置，其特征在于：所述检测装置为固定设置于所述真空腔体侧壁上的四极质谱仪；所述真空腔体顶部密封设置有连接件，所述连接件外部设置有连接法兰，所述连接件上插设有连接管道，所述样品台能够通过所述连接件与外界装置密封连接，并且可以通过馈入装置实现电的输入。

3.根据权利要求1所述的金属材料不同深度氢及其同位素含量检测装置，其特征在于：所述真空腔体底部连接有真空泵组，所述真空腔体内设置有真空计，所述真空计与外部控制系统电连接，用于真空腔体内的真空测量。

4.根据权利要求1所述的金属材料不同深度氢及其同位素含量检测装置，其特征在于：所述真空腔体侧壁上均匀设置有多个密封设置的备用接口，所述备用接口外部设置有连接法兰或观察窗口。

5.一种金属材料不同深度氢及其同位素含量检测方法，其特征在于：包括如下步骤：

将真空腔体烘烤到120摄氏度到150摄氏度约48小时，冷却后获得10^-10mbar量级的真空，待测样品置于样品台上，样品台通过连接件与外界控制装置连接，并能够实现对待测样品的温度的精确控制；

将氩离子枪与待测样品角度设置，其镜面反射的位置设置一固定放置的四极质谱仪；

确定好氩离子枪的参数，开启氩离子枪，同时四极质谱仪开始采集待检气体随时间的变化，氩离子枪的刻蚀速度经过标定后，能够氩枪对于获得金属材料的刻蚀速度，结合四极质谱仪获得不同深度的氢气及其同位素在不同深度的浓度变化，也可以扩展到其他气体检测。