[发明专利]一种氮嵌入镍超薄纳米片及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 202111489334.6 | 申请日： | 2021-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN114220980A | 公开（公告）日： | 2022-03-22 |
| 发明（设计）人： | 赵旭;安露露;朱江;王得丽 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | H01M4/90 | 分类号： | H01M4/90;B82Y40/00;B82Y30/00;H01M4/86 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 孙杨柳 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 嵌入 超薄 纳米 及其 制备 方法 应用 | ||
【权利要求书】：
1.一种氮嵌入镍纳米片，其特征在于，该纳米片的氮原子嵌入金属镍中；所述纳米片中氮原子占据面心立方镍晶格内部的体心位置，并引发面心立方镍晶格的顶点镍原子缺失。
2.如权利要求1所述的氮嵌入镍纳米片，其特征在于，所述镍原子缺失能够缩短氮原子与面心立方镍晶格中面心镍原子之间的距离，从而调节电子轨道杂化。
3.如权利要求1所述的氮嵌入镍纳米片，其特征在于，所述纳米片的厚度为4nm-5nm。
4.如权利要求1或3所述的氮嵌入镍纳米片，其特征在于，所述纳米片的的尺寸为100nm-200nm。
5.如权利要求1-4任一所述的氮嵌入镍纳米片的制备方法，其特征在于，将氢氧化镍纳米片置于氨气氛围中，在大于等于350℃条件下反应，使所述氨气还原氢氧化镍，得到所述氮嵌入镍纳米片。
6.如权利要求5所述的氮嵌入镍纳米片的制备方法，其特征在于，所述氨气的流速为60sccm-100sccm，所述氢氧化镍纳米片的质量为20mg-30mg。
7.如权利要求1-4任一所述的氮嵌入镍纳米片的应用，其特征在于，具体为用于碱性膜燃料电池阳极氢氧化反应中催化剂的应用。
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