[发明专利]一种超薄金属锂箔及其制备方法和应用在审
申请号: | 202111486937.0 | 申请日: | 2021-12-07 |
公开(公告)号: | CN114150246A | 公开(公告)日: | 2022-03-08 |
发明(设计)人: | 汪东煌;李晶泽;周爱军 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学长三角研究院(湖州) |
主分类号: | C23C2/04 | 分类号: | C23C2/04;C23C2/02;C23C2/40;C23C2/00;H01M4/38;H01M4/134;H01M4/1395 |
代理公司: | 北京正华智诚专利代理事务所(普通合伙) 11870 | 代理人: | 杨浩林 |
地址: | 313001 浙江省湖州市西塞*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 超薄 金属 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种超薄金属锂箔的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:采用浸渍提拉的方式将预热后的基底材料匀速通过熔融状态的金属锂,冷却,得到超薄金属锂箔。
2.如权利要求1所述的超薄金属锂箔的制备方法,其特征在于,所述基底材料为铝箔、铜箔、涂炭铝箔、涂炭铜箔、不锈钢箔、镍箔、钛箔、碳布或碳毡。
3.如权利要求1所述的超薄金属锂箔的制备方法,其特征在于,所述熔融状态的金属锂和所述预热后的基底材料的温度相同。
4.如权利要求3所述的超薄金属锂箔的制备方法,其特征在于,浸渍提拉时,所述熔融状态的金属锂和所述预热后的基底材料的温度均为200~700℃。
5.如权利要求1所述的超薄金属锂箔的制备方法,其特征在于,浸渍提拉时,基底材料与水平方向的倾斜角度为2~90度,基底材料的提拉速度为0.01mm/s~1m/s,基底材料的浸渍深度为0.1cm-20cm。
6.权利要求1~5任一项所述的超薄金属锂箔的制备方法制得的超薄金属锂箔。
7.如权利要求6所述的超薄金属锂箔,其特征在于,所述超薄金属锂箔的厚度为3~100μm。
8.权利要求6或7所述的超薄金属锂箔在用作和/或制备锂离子电池负极材料中的应用。
9.一种锂离子电池,其特征在于,采用权利要求6或7所述超薄金属锂箔作为负极材料。
10.一种制备权利要求6或7所述的超薄金属锂箔的生产系统,其特征在于,包括依次连接的放卷装置、浸渍提拉装置和收卷装置,放卷装置和浸渍提拉装置之间设置有基底预热装置,浸渍提拉装置和收卷装置之间设置有冷却装置,浸渍提拉装置的下方设置有熔融锂加热装置。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C2-00 用熔融态覆层材料且不影响形状的热浸镀工艺;其所用的设备
C23C2-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域上镀覆
C23C2-04 .以覆层材料为特征的
C23C2-14 .过量熔融覆层的除去;覆层厚度的控制或调节
C23C2-26 .后处理
C23C2-30 .熔剂或融态槽液上的覆盖物