[发明专利]半导体器件、阵列基板及显示装置在审

专利信息
申请号: 202111485554.1 申请日: 2021-12-07
公开(公告)号: CN114188357A 公开(公告)日: 2022-03-15
发明(设计)人: 吴伟 申请(专利权)人: 广州华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 黄舒悦
地址: 510700 广东省广州市黄埔区*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 半导体器件 阵列 显示装置
【说明书】:

本申请公开一种半导体器件、阵列基板及显示装置。其中,半导体器件包括:第一晶体管和第二晶体管。本申请采用将两个晶体管相并联的方式,两个晶体管的栅极接入相同的电压,两个晶体管的漏极电性连接,由于两个晶体管的电子迁移率不同,因此两个晶体管的阈值电压也不同,第一晶体管的阈值电压比第二晶体管的阈值电压高,从而使得半导体器件在大部分工作时间采用电子迁移率低但稳定性优的第二晶体管工作,在高亮度或其他特殊画面需求时将电子迁移率高的第一晶体管打开,提升器件整体开态电流;但由于第一晶体管的打开时间较短,老化更慢,产品信赖性提升,本申请可以同时满足高阶显示产品对晶体管的迁移率和稳定性的双重要求。

技术领域

本申请涉及显示技术领域,具体涉及一种半导体器件、阵列基板及显示装置。

背景技术

随着显示面板向着大尺寸、高分辨率、高频率及自发光显示模式等方向发展,对于控制开关和驱动显示的薄膜晶体管的迁移率和稳定性提出了越来越高的要求。而目前非晶硅和氧化物等常用的薄膜晶体管器件的迁移率与器件稳定性往往存在无法调和的关系,即无法同时大幅度提高其迁移率和稳定性。比如非晶硅迁移率低,开态电流低,无法满足高阶显示产品的需求,主要体现为高阶显示产品的充电不足或亮度不足。虽然氧化物薄膜晶体管的迁移率高,但稳定性不佳,在长期驱动下器件特性发生偏移,产品信赖性差;但显示产品对薄膜晶体管器件开态电流的需求不是一直存在的,大部分时间都可以接受低电流驱动,仅在部分高亮度画面或其他特殊画面需要高开态电流,但是现有的薄膜晶体管还不能满足显示面板对高开态电流的要求。

发明内容

本申请提供一种半导体器件、阵列基板及显示装置,以满足显示面板对高开态电流的要求。

本申请提供一种半导体器件,其包括:

第一晶体管;

第二晶体管,所述第一晶体管的漏极与所述第二晶体管的漏极电性连接,

所述第一晶体管的栅极和所述第二晶体管的栅极电性连接;其中,所述第一晶体管的电子迁移率比所述第二晶体管的电子迁移率高。

可选的,在本申请一些实施例中,所述第一晶体管的电子迁移率等于或者大于所述第二晶体管的电子迁移率的两倍。

可选的,在本申请一些实施例中,所述半导体器件包括:

基板;

栅极层,设在所述基板上,所述栅极层包括所述第一晶体管的栅极以及所述第二晶体管的栅极;

第一绝缘层,设在所述栅极层上;

第一半导体层,设在所述第一绝缘层上,所述第一半导体层包括所述第一晶体管的导电沟道;

第二绝缘层,设在所述第一半导体层上;

第二半导体层,设在所述第二绝缘层上,所述第二半导体层包括所述第二晶体管的导电沟道;

源漏极层,设在所述第二半导体层和所述第二绝缘层上,所述源漏极层包括所述第一晶体管的源极和漏极以及所述第二晶体管的源极和漏极,所述第一晶体管的漏极与所述第二晶体管的漏极相连接;其中,

所述第一晶体管的源极和漏极均与所述第一晶体管的导电沟道相连接,所述第二晶体管的源极和漏极均与所述第二晶体管的导电沟道相连接。

可选的,在本申请一些实施例中,所述位于第一半导体层正上方的第二绝缘层设有连接孔,所述第一晶体管的源极和漏极通过连接孔与所述第一半导体层相连接。

可选的,在本申请一些实施例中,所述半导体器件包括:

基板;

栅极层,设在所述基板上,所述栅极层包括所述第一晶体管的栅极以及所述第二晶体管的栅极;

第一绝缘层,设在所述栅极层上;

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