[发明专利]改善OLED器件阳极膜层粗糙度的方法以及激光器

说明书

本申请提供一种改善OLED器件阳极膜层粗糙度的方法以及激光器，包括：提供基板；在所述基板上设置阳极膜层，并对所述阳极膜层远离所述基板的一侧进行激光处理，以降低所述阳极膜层的粗糙度。该改善OLED器件阳极膜层粗糙度的方法通过对OLED器件阳极薄膜进行激光处理，改善膜层粗糙度，提高OLED器件效率。

技术领域

本发明涉及显示器领域，尤其涉及一种改善OLED器件阳极膜层粗糙度的方法以及激光器。

背景技术

随着显示技术的发展，OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)屏幕应用越加广泛，使用OLED屏幕也朝着中、大尺寸的方向发展。其中，提高OLED屏幕的效率有助于降低产品功耗，降低使用成本，更符合绿色经济理念。

然而，OLED屏幕的阳极膜层的粗糙度影响器件效率。一般来说，阳极膜层粗糙度越小，OLED屏幕效率越高。在现有制作条件下，OLED屏幕的阳极膜层粗糙度达到一定值后，无法通过阳极的制作工艺的优化来改善粗糙度。

发明内容

本申请实施例提供一种改善OLED器件阳极膜层粗糙度的方法以及激光器，通过对OLED器件阳极薄膜进行激光处理，改善膜层粗糙度，提高OLED器件效率。

本申请实施例提供一种改善OLED器件阳极膜层粗糙度的方法，包括：

提供基板；

在所述基板上设置阳极膜层，并对所述阳极膜层远离所述基板的一侧进行激光处理，以降低所述阳极膜层的粗糙度。

在一些实施例中，所述阳极膜层包括多个第一子膜层，对所述阳极膜层远离所述基板的一侧进行激光处理包括：对每一所述第一子膜层远离所述基板的一侧进行激光处理。

在一些实施例中，所述阳极膜层包括多个第二子膜层以及第三子膜层，所述多个第二子膜层设置在所述第三子膜层以及所述基板之间，对所述阳极膜层远离所述基板的一侧进行激光处理包括：对第三子膜层远离所述基板的一侧进行激光处理。

在一些实施例中，所述阳极膜层的材质包括氧化铟锌、氧化铟锡、银、碳化硅杂化聚合物、氧化钨中的一种或者多种。

在一些实施例中，对所述阳极膜层远离所述基板的一侧进行激光处理之后，还包括，对所述阳极膜层进行清洗，以去除所述激光处理产生的颗粒。

在一些实施例中，所述激光的波长为355nm。

在一些实施例中，所述激光的能量密度为75mJ/cm²

在一些实施例中，在对所述阳极膜层远离所述基板的一侧进行激光处理之前，还包括，对所述阳极膜层进行刻蚀。

本申请实施例提供一种激光器，应用于上述的改善OLED器件阳极膜层粗糙度的方法。

在一些实施例中，所述激光器为纳秒调Q激光器。

本申请实施例提供的改善OLED器件阳极膜层粗糙度的方法包括：在基板上设置阳极膜层，并对阳极膜层远离基板的一侧进行激光处理，以降低阳极膜层的粗糙度。即通过调节激光工艺参数，对OLED阳极薄膜进行后处理。由于激光处理可以保持膜层厚度，所以在保持膜层厚度基本不变的前提下，激光处理可以改善膜层粗糙度，提高OLED器件效率。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本申请实施例提供的改善OLED器件阳极膜层粗糙度的方法的流程示意图。