[发明专利]一种全氟聚合物膜及其制备方法和应用、航天设备

说明书

本发明公开一种全氟聚合物膜及其制备方法和应用、航天设备,涉及材料改性领域，以解决现有技术中辐射制冷薄膜不能同时实现高反射率和高抗辐照性的技术问题。本发明实施例的全氟聚合物膜采用如下配方制得：所述配方至少包括全氟聚合物和紫外波段无吸收的填料，所述填料包括Al₂O₃、Y₂O₃、ZrO₂中的一种或多种。本发明还公开了一种包括上述全氟聚合物膜的制备方法及其应用在电工产品中及航天设备。本发明提供的全氟聚合物膜具备高反射率并且抗辐照，可用于空间环境中的设备。

技术领域

本公开涉及材料改性技术领域，尤其涉及一种全氟聚合物膜及其制备方法和应用、航天设备。

背景技术

在宇宙空间的电子设备，除了本身运行产生的热量外，其还吸收太阳光的热量，而由于宇宙空间是一个高真空的环境，电子设备自身的热量只能依赖中红外波段的辐射实现散热，降低电子设备的温度。辐射制冷薄膜是以太阳光谱波段高反射率和红外波段高发射率来实现降温的，其中高反射率可以阻止电子设备吸收太阳能量，而高发射率可以提高电子设备向宇宙空间发射能量的能力。

目前的辐射制冷薄膜主要为二次表面镜和多孔聚合物结构，二次表面镜中的金属反射膜的反射性质已达到极限，且常用的金属反射膜在结合发射层后反射率会明显降低；多孔聚合物结构的基体材料多为低抗辐照材料，在空间环境中会被瞬间击穿，且由于大气和空间气压不同导致其形貌会发生变化而降低反射率。现有技术中的辐射制冷薄膜不能同时实现高反射率和高抗辐照性。

发明内容

为了解决上述技术问题，本发明的目的在于提供一种全氟聚合物膜及其制备方法和应用，以使得制备的全氟聚合物膜同时具有太阳光谱波段的高反射性能和红外的高发射性能，以及具备高抗辐照性。

为了达到上述目的，本发明采用如下技术方案：

一种全氟聚合物膜，其特征在于，所述全氟聚合物膜采用如下配方制得：所述配方至少包括全氟聚合物和紫外波段无吸收的填料，所述填料包括Al₂O₃、Y₂O₃、ZrO₂中的一种或多种。

根据本公开的至少一个实施方式，所述填料体积分数占所述全氟聚合物膜的30％-50％。

根据本公开的至少一个实施方式，所述全氟聚合物包括聚四氟乙烯、全氟烷氧基树脂、全氟乙烯丙烯共聚物中的一种或多种任意比例组合。

根据本公开的至少一个实施方式，所述配方至少包括的全氟聚合物和紫外波段无吸收填料均为粉体；

所述填料的粒径为0.5-1.5μm；和/或

所述全氟聚合物的粒径为0.5-1.5μm。

根据本公开的至少一个实施方式，所述全氟聚合物膜的厚度为200-400μm。