[发明专利]一种全氟聚合物膜及其制备方法和应用、航天设备

权利要求书

1.一种全氟聚合物膜，其特征在于，所述全氟聚合物膜采用如下配方制得：所述配方至少包括全氟聚合物和紫外波段无吸收的填料，;所述全氟聚合物和紫外波段无吸收填料均为粉体；

所述填料的粒径为0.5-1.5μm;

所述全氟聚合物的粒径为0.5-1.5μm；所述填料体积分数占所述全氟聚合物膜的30%-50%;

所述填料包括Y₂O₃、ZrO₂中的一种或多种；

所述全氟聚合物包括聚四氟乙烯、全氟烷氧基树脂、全氟乙烯丙烯共聚物中的一种或多种任意比例组合。

2.如权利要求1所述的全氟聚合物膜，其特征在于，所述全氟聚合物膜的厚度为200-400μm。

3.一种权利要求1-2任一项所述的全氟聚合物膜的制备方法，其特征在于，将权利要求1-2任一项所述全氟聚合物的配方所至少包括的全氟聚合物和紫外波段无吸收的填料粉体与水混合均匀获得浆料；

将所述浆料涂布在模具中干燥后烧结，获得全氟聚合物膜。

4.如权利要求3所述的全氟聚合物膜的制备方法，其特征在于，所述将全氟聚合物的配方所至少包括的全氟聚合物和紫外波段无吸收的填料粉体与水混合均匀获得浆料，其中，所述浆料的固含量为40%-70%。

5.如权利要求4所述的全氟聚合物膜的制备方法，其特征在于，所述烧结的方法包括对干燥后的所述浆料加压后空气烧结。

6.权利要求1-2任一项所述的全氟聚合物膜在电工产品中的应用，或，权利要求3-5任一项所述的全氟聚合物膜的制备方法制得的全氟聚合物膜在电工产品中的应用。

7.一种航天设备，其特征在于，所述航天设备的表面包覆有如权利要求1-2任一项所述的全氟聚合物膜，或所述航天设备的表面包覆有权利要求3-5任一项所述的全氟聚合物膜的制备方法制得的全氟聚合物膜。