[发明专利]一种光催化微反应芯片的制备方法

权利要求书

1.一种光催化微反应芯片的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1：按摩尔百分比组成为Li₂CO₃5～10mol％、TiO₂1～10mol％、Al₂O₃5～15mol％、SiO₂65～89mol％称取上述引入物作为原料，均匀混合，形成混合料；

S2：将混合料转移至刚玉坩埚中，将坩埚置于1300～1600℃碳化硅熔炉中溶制并搅拌0.5～1.5h得到玻璃液，然后澄清1h；

S3：将玻璃液倒入预热的铁板上定型，然后迅速转入马弗炉内，马弗炉温度为500～600℃，保温1～10h，之后以10℃/h的速率降至室温，最后将退火后的芯片玻璃加工成片状。

2.根据权利要求1所述的一种光催化微反应芯片的制备方法，其特征在于：在所述S1步骤中，Li₂CO₃、TiO₂、Al₂O₃、SiO₂的纯度大于99.99％。

3.根据权利要求1所述的一种光催化微反应芯片的制备方法，其特征在于：在所述S3步骤中，将得到的芯片玻璃进行激光直写改性和化学选择性腐蚀。

4.根据权利要求3所述的一种光催化微反应芯片的制备方法，其特征在于：所述激光直写改性和化学选择性腐蚀包括以下步骤：

(1)：将短脉冲激光聚焦到芯片玻璃内部进行照射改性，并移动焦点在玻璃内部扫描加工出流道和微反应器，短脉冲激光的激光宽度为30fs～10ps的范围内，脉冲能量为10μj，脉冲通过10倍物镜聚焦到芯片玻璃内部进行照射；

(2)：将短脉冲激光加工好的芯片玻璃放入1.0％的氢氟酸熔液中在室温下浸泡15min，然后取出清洗干净并烘干；

(3)：将氢氟酸处理后的芯片玻璃放入3mol/L的氢氧化钠和3mol/L的氢氧化钾混合碱液中在80℃反应10小时，然后取出清洗干净并烘干，可得到内含流道和微反应器的芯片玻璃。

5.一种光催化微反应芯片的芯片玻璃，其特征在于：由以下摩尔百分比组成：Li₂O5～10mol％、TiO₂1～10mol％、Al₂O₃5～15mol％、SiO₂65～89mol％。