[发明专利]圆轴测量装置、辊轴及应用该辊轴的纳米压印设备在审
申请号: | 202111376366.5 | 申请日: | 2021-11-19 |
公开(公告)号: | CN114152186A | 公开(公告)日: | 2022-03-08 |
发明(设计)人: | 程晓亮;刘炳坤;刘海玲;高臣 | 申请(专利权)人: | 天津市英贝特航天科技有限公司 |
主分类号: | G01B7/28 | 分类号: | G01B7/28;G01B11/26;G03F7/00;F16C13/00 |
代理公司: | 天津市尚文知识产权代理有限公司 12222 | 代理人: | 徐杨阳 |
地址: | 300000 天津市滨海新区自*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 测量 装置 辊轴 应用 纳米 压印 设备 | ||
本申请提供一种圆轴测量装置包括:电感测微仪和双频激光干涉仪;所述电感测微仪中交流电桥的第一桥臂上并入可调电感,通过调整所述可调电感和所述交流电桥的衔铁,补偿工作线圈的残余电压,根据经过残余电压补偿的所述工作线圈产生的电信号计算所述圆轴的圆度;所述双频激光干涉仪将正交偏振激光经过分光镜后和偏振分束镜生成第二反射光和第二投射光,分别经过参考镜片和测量镜片沿原路返回,并经过第二偏振片发生干涉,生成测量信号,根据所述参考信号和测量信号计算所述圆轴的直线度。通过精确的发现圆轴误差,为生产高精度圆轴提供参数修改基础。本申请还提供一种辊轴,采用还辊轴的滚涂系统和纳米压印设备。
技术领域
本申请请求保护一种圆轴生产技术,尤其涉及一种圆轴测量装置。本申请还涉及一种辊轴及应用该辊轴的滚涂系统和纳米压印设备。
背景技术
三维纳米薄膜是材料尺度在纳米级别的薄膜,其制造方法制造属微纳制造技术领域,而微纳制造是现代制造工业的基础技术之一,也是当前备受瞩目的重要前沿技术领域。现今,三维纳米薄膜制造技术已经在生产包括军用芯片在内的军事科学和环境科学等领域得到广泛应用。针对不同的应用领域不同,对纳米结构的要求也不尽相同,如在军事科学中常需要采用可降解的材料制备,在环境科学中常需要采用三维立体结构等,但通用的要求与准则都是要求低成本、高产出、标准化。因此,高分辨、高精准三维生物材料纳米结构的制造技术将成为下一代军用设备研发的技术制高点。
三维纳米结构生物薄膜在军事科学和环境监测等领域具有广阔的应用前景。传统制作三维纳米结构生物薄膜的方法,基本上分为两类,一类采用物理或化学的方法,包括自组装、热致相分离法等方法。
另一类属于机械类的方法,如微注塑和刻蚀的方法。如2006年,JudyYeh等人采用紫外光刻和微注塑技术制作了有机硅(PDMS)印章,2012年,LiShiLim等人紫外光刻和等离子刻蚀技术制作出硅基微孔薄膜。
上述方法主要应用在实验室,取得了诸多重大科学突破的同时,也存在以下问题:(1)成品率低、生产效率低,制造效率有待提高;(2)结构的稳定性低、一致性低、通量低,标准化制造能力有待提高;其中结构的稳定性差是三维纳米成型设备的致命瓶颈。
发明内容
为了解决当前技术方案中纳米制造良品率低的问题,本申请提出一种圆轴测量装置。本申请还涉及一种辊轴及应用该辊轴的滚涂系统和纳米压印设备。
本申请提供一种圆轴测量装置,包括:电感测微仪和双频激光干涉仪分别用于测量圆轴的圆度和直线度;
所述电感测微仪中交流电桥的第一桥臂上并入可调电感,通过调整所述可调电感和所述交流电桥的衔铁,补偿工作线圈的残余电压,根据经过残余电压补偿的所述工作线圈产生的电信号计算所述圆轴的圆度;
所述双频激光干涉仪将正交偏振激光经过分光镜后,产生的第一反射光经过第一偏振片生成参考信号,产生的第一透射光经过偏振分束镜生成第二反射光和第二投射光,分别经过参考镜片和测量镜片沿原路返回,并经过第二偏振片发生干涉,生成测量信号,根据所述参考信号和测量信号计算所述圆轴的直线度。
可选的,所述电感测微仪和双频激光干涉仪是分体式设计,且所述电感测微仪和所述双频激光干涉仪根据所述圆轴的直径与长度进行自定义装配。
可选的,还包括:装配架,所述装配架根据所述自定义装配,固定所述电感测微仪和双频激光干涉仪。
可选的,所述正交偏振光包括o光和e光;
所述参考信号的表达式如下:
IR∝ARCOS[2π(f1-f2)t+ΦR]
所述测量信号的频率表达式如下:
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