[发明专利]圆轴测量装置、辊轴及应用该辊轴的纳米压印设备在审
申请号: | 202111376366.5 | 申请日: | 2021-11-19 |
公开(公告)号: | CN114152186A | 公开(公告)日: | 2022-03-08 |
发明(设计)人: | 程晓亮;刘炳坤;刘海玲;高臣 | 申请(专利权)人: | 天津市英贝特航天科技有限公司 |
主分类号: | G01B7/28 | 分类号: | G01B7/28;G01B11/26;G03F7/00;F16C13/00 |
代理公司: | 天津市尚文知识产权代理有限公司 12222 | 代理人: | 徐杨阳 |
地址: | 300000 天津市滨海新区自*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 测量 装置 辊轴 应用 纳米 压印 设备 | ||
1.一种圆轴测量装置,其特征在于,包括:电感测微仪和双频激光干涉仪分别用于测量圆轴的圆度和直线度;
所述电感测微仪中交流电桥的第一桥臂上并入可调电感,通过调整所述可调电感和所述交流电桥的衔铁,补偿工作线圈的残余电压,根据经过残余电压补偿的所述工作线圈产生的电信号计算所述圆轴的圆度;
所述双频激光干涉仪将正交偏振激光经过分光镜后,产生的第一反射光经过第一偏振片生成参考信号,产生的第一透射光经过偏振分束镜生成第二反射光和第二投射光,分别经过参考镜片和测量镜片沿原路返回,并经过第二偏振片发生干涉,生成测量信号,根据所述参考信号和测量信号计算所述圆轴的直线度。
2.根据权利要求1所述圆轴测量装置,其特征在于,所述电感测微仪和双频激光干涉仪是分体式设计,且所述电感测微仪和所述双频激光干涉仪根据所述圆轴的直径与长度进行自定义装配。
3.根据权利要求2所述圆轴测量装置,其特征在于,还包括:装配架,所述装配架根据所述自定义装配,固定所述电感测微仪和双频激光干涉仪。
4.根据权利要求1所述圆轴测量装置,其特征在于,所述正交偏振光包括o光和e光;
所述参考信号的表达式如下:
IR∝ARCOS[2π(f1-f2)t+ΦR]
所述测量信号的频率表达式如下:
其中,所述AR和AM参考信号和测量信号的振幅,所述f1是o光的频率,所述f2是e光的频率,所述ΦR和是参考信号和测量信号的初始位移,所述Δf是多普勒移频。
5.一种辊轴,其特征在于,在制作所述辊轴的过程中,通过权利要求1所述圆轴测量装置测量所述辊轴的圆度误差和直线度误差。
6.一种滚涂系统,其特征在于,采用权利要求5所述辊轴作为滚轴,所述辊轴通过权利要求1所述圆轴测量装置测量所述辊轴的圆度误差和直线度误差;
所述圆轴测量装置,包括:电感测微仪和双频激光干涉仪分别用于测量圆轴的圆度和直线度;
所述电感测微仪中交流电桥的第一桥臂上并入可调电感,通过调整所述可调电感和所述交流电桥的衔铁,补偿工作线圈的残余电压,根据经过残余电压补偿的所述工作线圈产生的电信号计算所述圆轴的圆度;
所述双频激光干涉仪将正交偏振激光经过分光镜后,产生的第一反射光经过第一偏振片生成参考信号,产生的第一透射光经过偏振分束镜生成第二反射光和第二投射光,分别经过参考镜片和测量镜片沿原路返回,并经过第二偏振片发生干涉,生成测量信号,根据所述参考信号和测量信号计算所述圆轴的直线度。
7.根据权利要求6所述滚涂系统,其特征在于,所述电感测微仪和双频激光干涉仪是分体式设计,且所述电感测微仪和所述双频激光干涉仪根据所述圆轴的直径与长度进行自定义装配。
8.根据权利要求7所述滚涂系统,其特征在于,还包括:装配架,所述装配架根据所述自定义装配,固定所述电感测微仪和双频激光干涉仪。
9.根据权利要求6所述滚涂系统,其特征在于,所述正交偏振光包括o光和e光;
所述参考信号的表达式如下:
IR∝ARCOS[2π(f1-f2)t+ΦR]
所述测量信号的频率表达式如下:
其中,所述AR和AM参考信号和测量信号的振幅,所述f1是o光的频率,所述f2是e光的频率,所述ΦR和是参考信号和测量信号的初始位移,所述Δf是多普勒移频。
10.一种纳米压印设备,其特征在于,该压印设备采用权利要求6~9任一所述滚涂系统。
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