[发明专利]研磨机上下定盘快速冲洗装置在审
申请号: | 202111363815.2 | 申请日: | 2021-11-17 |
公开(公告)号: | CN114247680A | 公开(公告)日: | 2022-03-29 |
发明(设计)人: | 冯炜;蒋晓庚;黄盛军;菅明辉;孙晨光;王彦君 | 申请(专利权)人: | 中环领先半导体材料有限公司 |
主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02 |
代理公司: | 北京鑫知翼知识产权代理事务所(普通合伙) 11984 | 代理人: | 孙长江 |
地址: | 214000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 研磨机 下定 快速 冲洗 装置 | ||
本发明研磨机上下定盘快速冲洗装置,包括水箱、与水箱连接的喷淋组件、以设置于水箱上的用于连通水箱和喷淋组件的高压水泵;喷淋组件包括喷淋头,喷淋头包括用于可转动连接喷淋管的喷淋头连接管,将喷淋头置于上定盘和下定盘间,高压水泵将水箱内的水输送至喷淋头,磨片机的上定盘和下定盘转动,通过喷淋头高压出水进行高压式快速冲洗,形成恒定流量及恒定水压式高效清洗结构。
技术领域
本发明涉及半导体制备技术及制备设备,具体的,其展示一种研磨机上下定盘快速冲洗装置。
背景技术
在硅片的制备过程,包括硅片的研磨,硅片的研磨一般通过磨片机进行,硅片通过磨片机的上定盘和下定盘定位及固定后,通过研磨组件完成磨片做业,研磨机持续的进行硅片研磨做业,磨片机的上定盘和下定盘在进行长时间的硅片磨片加工后,在流砂盘槽内会堆积大量的砂浆,现阶段采用人工方式进行砂浆的清理,人工清理方式中人员在清理这些盘槽内的砂浆时占用时间较长,且清理的效果不佳。
设计一种可快速清理砂浆的装置,以快速进行盘槽内的砂浆的清理,可减少人力资源的占用,同时保证清理效果。
因此,有必要提供一种研磨机上下定盘快速冲洗装置来实现上述目的。
发明内容
本发明的目的是提供一种研磨机上下定盘快速冲洗装置。
技术方案如下:
一种研磨机上下定盘快速冲洗装置,包括水箱、与水箱连接的喷淋组件、以设置于水箱上的用于连通水箱和喷淋组件的高压水泵;
喷淋组件包括喷淋头,喷淋头包括用于可转动连接喷淋管的喷淋头连接管,将喷淋头置于上定盘和下定盘间,高压水泵将水箱内的水输送至喷淋头,磨片机的上定盘和下定盘转动,通过喷淋头高压出水进行高压式快速冲洗,形成恒定流量及恒定水压式高效清洗结构。
进一步的,喷淋头还包括用于设置喷淋头连接管的喷淋头主体,喷淋头主体的上下两端面均设置有喷淋水出口。
进一步的,喷淋管包括用于连接喷淋头连接管的连接管A,连接管A可伸缩连接于连接管B,连接管B连接于连接管C,连接管C可伸缩连接于连接管D。
进一步的,连接管B上对应连接管A设置有固定件A。
进一步的,连接管D上对应连接管A设置有固定件C。
进一步的,连接管B包括用于连接连接管A的横管、用于连接连接管C的立管。
进一步的,横管和立管垂直连接,且连接处设置有加强板。
进一步的,水箱包括箱体,箱体下侧设置有脚轮,且箱体上还设置有推动把手。
进一步的,喷淋组件和水箱连接处设置有加强角板。
与现有即使相比,本发明能够快速的进行盘槽内的砂浆的冲洗,减少人力资源的占用,提高清洗效率同时保证清洗质量。
附图说明
图1是本发明的结构示意图。
具体实施方式
实施例:
参阅图1,本实施例展示一种研磨机上下定盘快速冲洗装置,包括水箱1、与水箱1连接的喷淋组件、以设置于水箱1上的用于连通水箱和喷淋组件的高压水泵;
喷淋组件1包括喷淋头7,喷淋头7包括用于可转动连接喷淋管的喷淋头连接管72,将喷淋头7置于上定盘和下定盘间,高压水泵将水箱1内的水输送至喷淋头7,磨片机的上定盘和下定盘转动,通过喷淋头7高压出水进行高压式快速冲洗,形成恒定流量及恒定水压式高效清洗结构。
喷淋头7还包括用于设置喷淋头连接管72的喷淋头主体71,喷淋头主体71的上下两端面均设置有喷淋水出口73。
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