[发明专利]一种等公法线齿轮渐开线样板的精密抛光装置有效

专利信息
申请号: 202111246076.9 申请日: 2021-10-26
公开(公告)号: CN113977009B 公开(公告)日: 2022-09-06
发明(设计)人: 凌四营;杨洋;张衡;凌明;刘祥生;张志豪 申请(专利权)人: 大连理工大学
主分类号: B23F19/00 分类号: B23F19/00
代理公司: 大连理工大学专利中心 21200 代理人: 李晓亮;潘迅
地址: 116024 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 公法 齿轮 渐开线 样板 精密 抛光 装置
【说明书】:

本发明属于精密加工技术领域,依据等公法线齿轮渐开线样板公法线长度不变的特征,提供一种等公法线齿轮渐开线样板的精密抛光装置,所述精密抛光装置通过在滑板不同位置上安装抛光块来实现不同规格的等公法线齿轮渐开线样板的抛光;利用一对往复直线运动的抛光块与自由转动的等公法线齿轮渐开线样板间的相对滑动,同步实现两渐开线齿面的抛光。采用该装置可在一定程度上可以改善齿廓精度,并且减小齿面的表面粗糙度Ra值至几十纳米量级。本发明提供的精密抛光装置,具有加工成本低、效率高、操作简单、抛光效果显著的优点;采用该装置可在一定程度上可以改善齿廓精度,并且减小齿面的表面粗糙度Ra值至几十纳米量级;具有重要的推广应用价值。

技术领域

本发明属于精密加工技术领域,涉及一种等公法线齿轮渐开线样板的精密抛光装置。

背景技术

渐开线因其在传动中的诸多优越性常作为齿轮的齿廓,但渐开线的复杂性与特殊性增加了其加工与测试难度。作为渐开线加工与测试传递基准的渐开线样板,对渐开线齿廓的精度要求更高。齿轮渐开线样板国家标准GB/T 6467-2010规定了齿轮渐开线样板的精度等级分1级和2级。1级齿轮渐开线样板的齿廓形状公差f对应于基圆半径rb≤100mm、100mmrb≤200mm、200mmrb≤300mm和300mmrb≤400mm分别为1.0μm、1.4μm、1.7μm和2.1μm;展开长度对应于基圆半径rb=100mm、200mm、300mm、400mm应不小于70mm、105mm、140mm和160mm;1级精度齿轮渐开线样板的表面粗糙度要求不大于Ra 0.1μm。

发明专利【ZL201711393983.X】公开了一种自安装基准等公法线齿轮渐开线样板,提到了一种齿轮渐开线样板的新结构,但没有涉及加工和检测这种齿轮渐开线样板的具体装置与方法;发明专利一种高精度齿轮渐开线样板研磨装置及应用【CN202110734382.0】,它有利于降低齿轮渐开线样板的齿廓形状偏差和表面粗糙度并改变齿轮渐开线样板磨削后的表面纹路朝向,研磨齿轮渐开线样板表面粗糙度最高可以到达Ra 0.1μm左右,并不能保证稳定达到齿轮渐开线样板国家标准GB/T 6467-2010中的1级精度要求。

抛光是利用机械、化学或电化学的作用,使工件表面粗糙度降低,以获得光亮、平整表面的加工方法。利用超精密抛光技术,可降低齿轮渐开线样板齿廓面表面粗糙度Ra达到几十纳米。

发明内容

为进一步降低等公法线齿轮渐开线样板的齿面粗糙度,本发明根据等公法线齿轮渐开线样板公法线长度不变的特征,提出一种等公法线齿轮渐开线样板的精密抛光装置,通过在滑板不同位置上安装抛光块来实现不同规格的等公法线齿轮渐开线样板的抛光;利用一对往复直线运动的抛光块与自由转动的等公法线齿轮渐开线样板间的相对滑动,同步实现两渐开线齿面的抛光。采用该装置可在一定程度上可以改善齿廓精度,并且减小齿面的表面粗糙度Ra值至几十纳米量级。

为了达到上述目的,本发明采用的技术方案如下:

一种等公法线齿轮渐开线样板的精密抛光装置,包括固定轴1、锁紧螺母2、十字垫圈3、平垫圈4、平面密珠环5、密珠轴套6、等公法线齿轮渐开线样板7、导轨软带8、小护罩9、大理石底座10、抛光块11、滑板12、连接平台13、直线模组14、联轴器15、电机16、大理石平台17。

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