[发明专利]满足超低排放的后处理系统的控制方法及装置在审

专利信息
申请号: 202111196129.0 申请日: 2021-10-14
公开(公告)号: CN113738483A 公开(公告)日: 2021-12-03
发明(设计)人: 苗垒;陈正国;张辉;侯淑娟;陈超 申请(专利权)人: 无锡威孚力达催化净化器有限责任公司
主分类号: F01N9/00 分类号: F01N9/00;F01N3/20;F01N3/035;F01N3/28;F01N3/10
代理公司: 无锡承果知识产权代理有限公司 32373 代理人: 张亮
地址: 214000 江苏省无*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 满足 排放 处理 系统 控制 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种满足超低排放的后处理系统的控制方法,其特征在于,所述方法应用于满足超低排放的后处理系统的终端设备当中,所述后处理系统包括加热器、反应模块、介质输入模块以及终端设备;所述加热器以及所述介质输入模块均与所述反应模块连接,且所述反应模块、所述介质输入模块以及所述加热器分别与所述终端设备连接,所述终端设备用于对所述反应模块、所述介质输入模块以及所述加热器进行控制以及数据交互;

所述加热器连接于所述反应模块之前;

所述反应模块中包括依次连接的氧化催化装置DOC、催化涂层覆盖的催化型颗粒捕集装置SCRF、选择性催化还原装置SCR以及氨逃逸催化装置ASC;

所述介质输入模块包括第一喷嘴以及第二喷嘴,所述第一喷嘴的介质输出端与所述SCRF的介质输入端连接,所述第二喷嘴的介质输出端与所述SCR的介质输入端连接;

所述方法包括:

获取进气工况,所述进气工况包括进气温度以及排气流量;

对所述反应模块中的待测温度点进行温度监控,得到与所述SCR入口对应的SCR入口温度以及与所述SCRF的入口对应的SCRF入口温度;

对所述SCRF入口处的气体进行氮氧化物含量监控,得到SCRF入口氮氧化物含量;

对所述SCR出口处的气体进行氮氧化物含量监控,得到SCR出口氮氧化物含量;

基于所述进气工况对所述加热器进行控制;

基于所述SCRF入口氮氧化物含量以及所述SCRF入口温度、所述排气流量对所述第一喷嘴的喷射量进行控制;

基于所述SCR出口氮氧化物含量以及所述SCR入口温度、所述排气流量、氮氧化物含量对所述第二喷嘴的喷射量进行控制。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述进气工况包括进入所述加热器的加热器进口温度以及加热器进口流量;

所述基于所述进气工况对所述加热器进行控制,包括:

基于所述加热器进口温度以及所述加热器介质流量确定所述加热器的预设工作占空比;

确定与所述预设工作占空比对应的占空比闭环调节系数;

基于所述闭环调节系数以及所述预设工作占空比确定所述加热器的实际工作占空比;

基于所述加热器的实际工作占空比对所述加热器进行调节。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述确定与所述预设工作占空比对应的占空比闭环调节系数,包括:

根据流量-出口温度对应关系,基于所述加热器介质流量确定所述加热器出口理论目标温度;

基于所述加热器出口理论温度与加热器出口温度确定所述占空比闭环调节系数。

4.根据权利要求1至3任一所述的方法,其特征在于,基于所述SCRF入口氮氧化物含量以及所述SCRF入口温度、所述排气流量对所述第一喷嘴的喷射量进行控制,包括:

基于所述SCRF入口氮氧化物含量、所述排气流量以及所述SCRF入口温度,建立SCRF开环控制模型、氨气存储闭环控制模型以及SCRF化学反应模型;

通过所述SCRF开环控制模型、所述氨气存储闭环控制模型以及所述SCRF化学反应模型确定对所述第一喷嘴的喷射量进行控制。

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述基于所述SCRF开环控制模型、所述氮气存储闭环控制模型以及所述SCRF化学反应模型确定对所述第一喷嘴的喷射量进行控制,包括:

基于所述SCRF开环控制模型确定预设第一喷嘴喷射量;

基于所述氨气存储闭环控制模型以及所述SCRF化学反应模型确定SCRF闭环系数;

通过所述SCRF闭环系数对所述预设第一喷嘴喷射量进行调整,并基于调整结果对所述第一喷嘴的喷射量进行控制。

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