[发明专利]一种靶材组件及靶材组件制作方法

权利要求书

1.一种靶材组件制作方法，其特征在于，包括：

提供靶材组件，所述靶材组件包括靶材和靶材背板，所述靶材的结合面与靶材背板相结合,且所述靶材溅射面边缘具有圆弧形倒角和位于圆弧形倒角下侧的向内凹陷斜面；

对所述靶材边缘和靶材背板靠近所述连接处位置进行喷砂处理，在靶材边缘形成喷砂区，所述喷砂区的位置从圆弧形倒角顶端到靶材与靶材背板的连接处，且在靶材背板靠近所述连接处位置也形成喷砂区；

对靶材边缘向内凹陷斜面的喷砂区和靶材背板靠近所述连接处位置进行熔射处理，形成熔射层。

2.根据权利要求1所述的靶材组件制作方法，其特征在于，所述圆弧形倒角的半径为2mm～4mm。

3.根据权利要求1所述的靶材组件制作方法，其特征在于，所述靶材为钛靶材或钽靶材。

4.根据权利要求1所述的靶材组件制作方法，其特征在于，所述熔射层的上边缘接近圆弧形倒角，使得靶材边缘整个向内凹陷斜面均覆盖熔射层。

5.根据权利要求1所述的靶材组件制作方法，其特征在于，所述喷砂区所形成的表面粗糙度为5μm～10μm，所述喷砂处理具体工艺包括：所喷砂粒为白刚玉，喷砂机空气压强范围控制在0.441MPa～0.539MPa，喷砂枪枪嘴至靶材表面的距离范围为150mm～200mm，喷砂枪喷嘴所喷砂粒所作的直线运动方向和靶材表面呈40°～70°范围的夹角。

6.根据权利要求5所述的靶材组件制作方法，其特征在于，对溅射面边缘圆弧区喷砂具体工艺包括：喷砂枪与靶材表面呈50°～70°范围的夹角，喷砂时喷嘴做小幅度匀速摆动，保证圆弧区表面均匀喷砂。

7.根据权利要求1所述的靶材组件制作方法，其特征在于，所述熔射层为10μm～22μm的均匀铝膜层，所述熔射处理的具体工艺包括：所述熔射处理的熔射粉末为铝粉末，供给量设定为40～150g/min，所述熔射处理的温度控制在1200℃～1350℃，所述熔射处理的熔射距离为60mm～300mm。

8.一种靶材组件，其特征在于，包括：

靶材和靶材背板，所述靶材与靶材背板相结合,且所述靶材边缘具有圆弧形倒角和位于圆弧形倒角下侧的向内凹陷斜面；所述靶材边缘圆弧形倒角形成有喷砂区；所述靶材边缘向内凹陷斜面和靶材背板靠近所述连接处位置形成有熔射层。

9.根据权利要求8所述的靶材组件，其特征在于，所述圆弧形倒角的半径为2mm～4mm。

10.根据权利要求8所述的靶材组件，其特征在于，所述熔射层的上边缘接近圆弧形倒角，使得靶材边缘整个向内凹陷斜面均覆盖熔射层。