[发明专利]一种触控显示面板、其制作方法及显示装置在审

专利信息
申请号: 202111157439.1 申请日: 2021-09-30
公开(公告)号: CN115877965A 公开(公告)日: 2023-03-31
发明(设计)人: 李辉;但艺;朱海鹏;周欢;冉敏;梁鹏 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司
主分类号: G06F3/041 分类号: G06F3/041;G02F1/1333;G02F1/1335
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 刘源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 显示 面板 制作方法 显示装置
【说明书】:

发明公开了一种触控显示面板、其制作方法及显示装置,该触控显示面板包括:显示面板,包括相对的第一显示基板和第二显示基板,第二显示基板包括显示区和位于显示区一侧的第一非显示区,第一非显示区包括触控扇出区;触控感应层,在第二显示基板背离第一显示基板的一侧;有机保护层,在触控感应层背离第二显示基板的一侧,有机保护层在第二显示基板上的正投影覆盖于触控扇出区上;偏光片,位于有机保护层背离触控感应层的一侧,偏光片在第二显示基板上的正投影与有机保护层在第二显示基板上的正投影存在第一交叠区域,第一交叠区域沿第一方向的宽度小于等于900μm,第一方向为显示区与触控扇出区的排列方向。该面板能降低气泡线的发生概率。

技术领域

本发明涉及显示设备技术领域,特别涉及一种触控显示面板、其制作方法及显示装置。

背景技术

目前液晶显示行业技术已发展成熟,缩减成本和增加产品附加值为另一种发展趋势,而且随着消费者对触控技术的需求,MLOC(多层外挂式)、SLOC(单层外挂式)、Touch InCell(内嵌式)等技术应运而生,MLOC(Mutli Layer On Cell)为多层结构,每一层均需要相应的掩膜板(mask),成本较高,且整体厚度较厚,不满足窄、薄等要求;Touch In Cell良率低制约了其发展前景,SLOC技术不仅成本低,且良率较高,为目前的主要发展方向。

但SLOC产品需要一层有机保护层(OC)来保护实现触控感应功能的触控感应(Sensor ITO)走线不被因外界水汽接触而引起的腐蚀,显示区域(AA区)的有机保护层因影响透过率而被显影掉,仅保留触控扇出区(Fanout区)的OC,在触控显示模组贴附偏光片(POL)时容易在OC的边缘(气泡积聚处)出现一条笔直的白线,严重影响产品的外观品质。

发明内容

本发明提供了一种触控显示面板、其制作方法及显示装置,上述触控显示面板能够降低气泡线不良的发生概率。

为达到上述目的,本发明提供以下技术方案:

一种触控显示面板,包括:

显示面板,所述显示面板包括相对设置的第一显示基板和第二显示基板,所述第二显示基板包括显示区和位于所述显示区一侧的第一非显示区,所述第一非显示区包括触控扇出区;

触控感应层,所述触控感应层位于所述第二显示基板背离所述第一显示基板的一侧;

有机保护层,所述有机保护层位于所述触控感应层背离所述第二显示基板的一侧,且所述有机保护层在所述第二显示基板上的正投影覆盖于所述触控扇出区上;

偏光片,所述偏光片位于所述有机保护层背离所述触控感应层的一侧,所述偏光片位于所述第二显示基板上的正投影与所述有机保护层位于所述第二显示基板上的正投影存在第一交叠区域,且所述第一交叠区域沿第一方向的宽度小于等于900μm,所述第一方向为所述显示区与所述触控扇出区的排列方向。

上述触控显示面板中,包括显示面板、触控感应层、有机保护层以及偏光片,其中,显示面板中的第二显示基板包括显示区和位于显示区一侧的第一非显示区,第一非显示区包括触控扇出区,触控感应层位于第二显示基板背离第一显示基板的一侧,有机保护层位于触控感应层背离第二显示基板的一侧,且有机保护层在第二显示基板上的正投影覆盖触控扇出区上,对位于触控扇出区的触控感应层进行保护,偏光片位于有机保护层背离触控感应层的一侧,由于偏光片位于第二显示基板上的正投影与有机保护层位于第二显示基板上的正投影存在第一交叠区域,且第一交叠区域沿第一方向的宽度小于等于900μm,第一方向为显示区与触控扇出区的排列方向,能够使得偏光片与有机保护层重叠的区域较小,即有机保护层具有段差的位置更靠近偏光片的边缘位置,能够使得在对触控显示面板进行脱泡工艺时,残留在触控显示面板内的气泡更容易被挤压出去,能够降低气泡线不良的发生概率。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111157439.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top