[发明专利]组合物、有机发光装置和其制造方法以及消费型产品在审

专利信息
申请号: 202111130347.4 申请日: 2017-03-16
公开(公告)号: CN113861201A 公开(公告)日: 2021-12-31
发明(设计)人: 曾礼昌;瓦季姆·阿达莫维奇;夏传军;迈克尔·S·韦弗 申请(专利权)人: 环球展览公司
主分类号: C07D487/04 分类号: C07D487/04;C07D471/14;C07D487/14;C07D495/14;C07D519/00;H01L51/50;H01L51/54
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 高敏
地址: 美国新*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 组合 有机 发光 装置 制造 方法 以及 消费 产品
【权利要求书】:

1.一种组合物,其包含第一化合物与第二化合物的混合物;

其中所述第一化合物具有式I的结构:

其中所述第二化合物具有式II的结构:

其中L1、L2、L3和L4各自独立地选自由以下组成的群组:直接键、烷基、烯基、炔基、芳基、杂芳基和其组合;

其中G1和G2各自独立地选自由以下组成的群组:氢、氘、卤素、烷基、烷氧基、环烷基、环烷氧基、硅烷基、氨基、苯、联苯、联三苯、萘、三亚苯、芘、蒽、菲、荧蒽、芴、二苯并呋喃、二苯并噻吩、二苯并硒吩、咔唑和其组合;

其中G3选自由以下组成的群组:吡啶、嘧啶、吡嗪、三嗪、喹啉、异喹啉、喹唑啉、喹喔啉、苯并咪唑、氮杂-三亚苯、菲咯啉、氮杂-芘、氮杂-蒽、氮杂-芴、氮杂-二苯并呋喃、氮杂-二苯并噻吩、氮杂-二苯并硒吩、氮杂-咔唑和其组合;

其中G4选自由以下组成的群组:氢、氘、卤素、烷基、烷氧基、环烷基、环烷氧基、硅烷基、氨基、环烯基、杂烯基、炔基、芳基、杂芳基和其组合;

其中G3任选地进一步经选自由以下组成的群组的取代基取代:氢、氘、卤素、烷基、烷氧基、环烷基、环烷氧基、硅烷基、氨基、环烯基、杂烯基、炔基、芳基、杂芳基和其组合;

其中R1、R2、R3、R4、R5和R6各自独立地表示单取代基到最大允许取代基或无取代基;并且

其中R1、R2、R3、R4、R5和R6各自独立地选自由以下组成的群组:氢、氘、卤素、烷基、环烷基、杂烷基、芳烷基、烷氧基、芳氧基、氨基、硅烷基、烯基、环烯基、杂烯基、炔基、芳基、杂芳基、酰基、羰基、羧酸基、酯基、腈基、异腈基、硫基、亚磺酰基、磺酰基、膦基和其组合,并且其中任两个相邻取代基任选地接合或稠合成环。

2.根据权利要求1所述的组合物,其中所述第一化合物具有150℃到350℃的蒸发温度T1

其中所述第二化合物具有150℃到350℃的蒸发温度T2

其中T1-T2的绝对值小于20℃;

其中所述第一化合物在所述混合物中具有浓度C1,并且在通过在真空沉积工具中在1×10-6托到1×10-9托之间的恒定压力下、在沉积速率下在位于距被蒸发的所述混合物预定距离的表面上使所述混合物蒸发而形成的膜中具有浓度C2;并且

其中(C1-C2)/C1的绝对值小于0.05。

3.根据权利要求1所述的组合物,其中所述第一化合物在T1下在1atm下具有蒸气压力P1,并且所述第二化合物在T2下在1atm下具有蒸气压力P2;并且

其中P1/P2的比率在0.90:1到1.10:1范围内。

4.根据权利要求1所述的组合物,其中所述第一化合物具有第一质量损失速率,并且所述第二化合物具有第二质量损失速率,其中所述第一质量损失速率与所述第二质量损失速率之间的比率在0.90:1到1.10:1范围内。

5.根据权利要求1所述的组合物,其中所述第一化合物选自由以下组成的群组:

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