[发明专利]包括可程序化电阻器的记忆体单元与记忆体系统在审
申请号: | 202110982620.X | 申请日: | 2021-08-25 |
公开(公告)号: | CN113674784A | 公开(公告)日: | 2021-11-19 |
发明(设计)人: | 池育德;陈媺妼;陈雲昇;林文章;张琮永;林崇荣;金雅琴;余昕芫 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | G11C13/00 | 分类号: | G11C13/00 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国 |
地址: | 中国台湾新竹市*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 包括 程序化 电阻器 记忆体 单元 系统 | ||
1.一种记忆体单元,其特征在于,包括:
一第一可程序化电阻器,包括:
一第一栅极结构,电性耦接至一第一控制线;以及
一共享的源极/漏极结构;
一第二可程序化电阻器,包括:
一第二栅极结构,电性耦接至一第二控制线;以及
该共享的源极/漏极结构;以及
一晶体管,包括:
一第一源极/漏极结构,电性耦接至一位元线;
一第三栅极结构,电性耦接至一字元线;以及
一第二源极/漏极结构,该第二源极/漏极结构电性耦接至该第一可程序化电阻器的该共享的源极/漏极结构以及该第二可程序化电阻器的该第二源极/漏极结构。
2.如权利要求1所述的记忆体单元,其特征在于,进一步包含:
一绝缘结构,设置于该第一栅极结构与该第二源极/漏极结构之间,以电性隔离于该第一栅极结构与该第二源极/漏极结构之间。
3.如权利要求2所述的记忆体单元,其特征在于,进一步包含:
一介电层,设置于该第一栅极结构与该共享的源极/漏极结构之间,其中该共享的源极/漏极结构接触该介电层的一第一区域,其中该绝缘结构接触该介电层的一第二区域。
4.如权利要求3所述的记忆体单元,其特征在于,其中该介电层包括氮化钛/二氧化铪/二氧化硅。
5.如权利要求3所述的记忆体单元,其特征在于,进一步包含:
一另一介电层,该另一介电层设置于该第二栅极结构与该共享的源极/漏极结构之间。
6.如权利要求5所述的记忆体单元,其特征在于,进一步包含:
一另一绝缘结构,其中该共享的源极/漏极结构接触该另一介电层的一第一区域,其中该另一绝缘结构接触该另一介电层的一第二区域。
7.如权利要求5所述的记忆体单元,其特征在于,进一步包含:
一浮动源极/漏极结构,该浮动源极/漏极结构为电性浮动的,其中该共享的源极/漏极结构接触该另一介电层的一第一区域,其中该浮动源极/漏极结构接触该另一介电层的一第二区域。
8.如权利要求2所述的记忆体单元,其特征在于,进一步包含:
一互连金属轨,将该第二源极/漏极结构电性耦接至该共享的源极/漏极结构,其中该互连金属轨设置于该第一栅极结构及该绝缘结构上方。
9.一种记忆体系统,其特征在于,包括:
一记忆体单元,包括:
一可程序化电阻器,其包括一栅极结构以及一源极/汲极结构;以及
一控制晶体管,其耦接至该可程序化电阻器的一源极/漏极结构;以及
一记忆体控制器,耦接至该记忆体单元,该记忆体控制器用于:
对该可程序化电阻器的该栅极结构施加一第一电压,将该可程序化电阻器设定为具有一第一电阻,同时启用该控制晶体管;以及
对该可程序化电阻器的该栅极结构施加低于第一电压的一第二电压,将该可程序化电阻器设定为具有高于该第一电阻的一第二电阻,同时启用该控制晶体管。
10.一种记忆体单元,其特征在于,包括:
一第一可程序化电阻器,包括:
一第一栅极结构,电性耦接至一第一控制线;以及
一第一源极/漏极结构,电性耦接至一输出节点;
一第二可程序化电阻器,包括:
一第二栅极结构,电性耦接至一第二控制线;以及
一第二源极/漏极结构,电性耦接至该输出节点;以及
一控制晶体管,包括:
一第三源极/漏极结构,电性耦接至一位元线;
一第三栅极结构,电性耦接至一字元线的;以及
一第四源极/漏极结构,电性耦接至该输出节点。
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