[发明专利]包括可程序化电阻器的记忆体单元与记忆体系统在审

专利信息
申请号: 202110982620.X 申请日: 2021-08-25
公开(公告)号: CN113674784A 公开(公告)日: 2021-11-19
发明(设计)人: 池育德;陈媺妼;陈雲昇;林文章;张琮永;林崇荣;金雅琴;余昕芫 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: G11C13/00 分类号: G11C13/00
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 中国台湾新竹市*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 包括 程序化 电阻器 记忆体 单元 系统
【权利要求书】:

1.一种记忆体单元,其特征在于,包括:

一第一可程序化电阻器,包括:

一第一栅极结构,电性耦接至一第一控制线;以及

一共享的源极/漏极结构;

一第二可程序化电阻器,包括:

一第二栅极结构,电性耦接至一第二控制线;以及

该共享的源极/漏极结构;以及

一晶体管,包括:

一第一源极/漏极结构,电性耦接至一位元线;

一第三栅极结构,电性耦接至一字元线;以及

一第二源极/漏极结构,该第二源极/漏极结构电性耦接至该第一可程序化电阻器的该共享的源极/漏极结构以及该第二可程序化电阻器的该第二源极/漏极结构。

2.如权利要求1所述的记忆体单元,其特征在于,进一步包含:

一绝缘结构,设置于该第一栅极结构与该第二源极/漏极结构之间,以电性隔离于该第一栅极结构与该第二源极/漏极结构之间。

3.如权利要求2所述的记忆体单元,其特征在于,进一步包含:

一介电层,设置于该第一栅极结构与该共享的源极/漏极结构之间,其中该共享的源极/漏极结构接触该介电层的一第一区域,其中该绝缘结构接触该介电层的一第二区域。

4.如权利要求3所述的记忆体单元,其特征在于,其中该介电层包括氮化钛/二氧化铪/二氧化硅。

5.如权利要求3所述的记忆体单元,其特征在于,进一步包含:

一另一介电层,该另一介电层设置于该第二栅极结构与该共享的源极/漏极结构之间。

6.如权利要求5所述的记忆体单元,其特征在于,进一步包含:

一另一绝缘结构,其中该共享的源极/漏极结构接触该另一介电层的一第一区域,其中该另一绝缘结构接触该另一介电层的一第二区域。

7.如权利要求5所述的记忆体单元,其特征在于,进一步包含:

一浮动源极/漏极结构,该浮动源极/漏极结构为电性浮动的,其中该共享的源极/漏极结构接触该另一介电层的一第一区域,其中该浮动源极/漏极结构接触该另一介电层的一第二区域。

8.如权利要求2所述的记忆体单元,其特征在于,进一步包含:

一互连金属轨,将该第二源极/漏极结构电性耦接至该共享的源极/漏极结构,其中该互连金属轨设置于该第一栅极结构及该绝缘结构上方。

9.一种记忆体系统,其特征在于,包括:

一记忆体单元,包括:

一可程序化电阻器,其包括一栅极结构以及一源极/汲极结构;以及

一控制晶体管,其耦接至该可程序化电阻器的一源极/漏极结构;以及

一记忆体控制器,耦接至该记忆体单元,该记忆体控制器用于:

对该可程序化电阻器的该栅极结构施加一第一电压,将该可程序化电阻器设定为具有一第一电阻,同时启用该控制晶体管;以及

对该可程序化电阻器的该栅极结构施加低于第一电压的一第二电压,将该可程序化电阻器设定为具有高于该第一电阻的一第二电阻,同时启用该控制晶体管。

10.一种记忆体单元,其特征在于,包括:

一第一可程序化电阻器,包括:

一第一栅极结构,电性耦接至一第一控制线;以及

一第一源极/漏极结构,电性耦接至一输出节点;

一第二可程序化电阻器,包括:

一第二栅极结构,电性耦接至一第二控制线;以及

一第二源极/漏极结构,电性耦接至该输出节点;以及

一控制晶体管,包括:

一第三源极/漏极结构,电性耦接至一位元线;

一第三栅极结构,电性耦接至一字元线的;以及

一第四源极/漏极结构,电性耦接至该输出节点。

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