[发明专利]一种碳化硅材料抛光方法

说明书

本发明涉及一种碳化硅材料抛光方法，包括如下步骤：S1、将800目、1200目及1500目碳化硅微粉分别与非水溶剂混合液搅拌均匀，得到不同规格的碳化硅抛光浆；S2、在需要抛光的碳化硅部件内部填充800目碳化硅粉制成的碳化硅微粒浆，通过搅拌器将内部的碳化硅浆进行高速旋转研磨进行粗抛，将表面杂质及附着物打磨平整；S3、将1200目碳化硅粉制成的碳化硅浆倒入抛光部件内部，高速旋转研磨，进行中抛；S4、将1500目碳化硅粉制成的碳化硅浆倒入抛光部件内部，高速旋转研磨，进行精抛；S5、用金刚石粉对以上抛光后的瑕疵进行维修。本发明抛光方法可以降低超精细化工部件表面粗糙度、提高抛光表面光洁度。

技术领域

本发明涉及抛光技术领域，尤其涉及精细化工行业碳化硅材料的抛光方法。

背景技术

碳化硅具有高硬度、高耐磨性、高耐腐蚀性以及较高的高温强度等特点，被应用于各种耐磨、耐蚀、耐高温的机械零部件及各个领域。例如应用碳化硅制作反应釜、换热器、精馏塔以及一些冷凝系统中等。在精细化工行业中，有些用碳化硅制作的部件内表面需要进行抛光，避免设备运行的时候内件表面杂质脱落，影响内部盛装的物料纯度。同时，如果内部表面处理不干净会造成内部介质粘附，容易对部件内部表面产生腐蚀，缩短部件实用寿命；并且，粘附的介质过多会造成材料浪费，增加运行成本，随着时间加长粘附的介质越多越不利于清洗。

由于碳化硅具有高硬度的特点，普通硬度磨粒边角容易被碳化硅钝化，造成抛光工艺不稳定、抛光效果差，并且造成抛光削磨效率低等问题。

发明内容

为解决上述技术问题，本发明的目的是提供一种碳化硅材料抛光方法。

本发明的技术方案如下：

一种碳化硅材料抛光方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1、将800目、1200目及1500目碳化硅微粉分别与非水溶剂混合液搅拌均匀，得到不同规格的碳化硅抛光浆；

S2、在需要抛光的碳化硅部件内部填充800目碳化硅粉制成的碳化硅微粒浆，通过搅拌器将内部的碳化硅浆进行高速旋转研磨进行粗抛，将表面杂质及附着物打磨平整；

S3、将1200目碳化硅粉制成的碳化硅浆倒入抛光部件内部，高速旋转研磨，进行中抛；

S4、将1500目碳化硅粉制成的碳化硅浆倒入抛光部件内部，高速旋转研磨，进行精抛；

S5、用金刚石粉对以上抛光后的瑕疵进行维修。

进一步的，所述非水溶剂包括乙二醇、丙二醇、聚乙二醇、异丙醇、甘油等中的一种或多种。

进一步的，所述步骤S1中还包括氧化剂。

进一步的，所述氧化剂包括氯酸盐、高氯酸盐、无机过氧化物、硝酸盐等中的一种或多种。

进一步的，所述步骤S2中转速600-800r/min、步骤S3中转速600-800r/min、步骤S4中转速400-600r/min、步骤S5中转速300-500r/min。

进一步的，所述的碳化硅浆中碳化硅含量为40-55wt％。

进一步的，所述金刚石微粉粒度不大于W5。

进一步的，所述的碳化硅浆中的氧化剂摩尔浓度1-4mol/L。

进一步的，所述的搅拌器结构采用近似螺旋的扇叶形搅拌器。

借由上述方案，本发明至少具有以下优点：

本发明抛光方法可以降低超精细化工部件表面粗糙度、提高抛光表面光洁度。

本发明的抛光浆表面质量稳定、不易被钝化、抛光效果好、切削效率高，抛光浆可以回收重复利用，降低抛光成本并且采用此抛光方法可大大提高抛光效率。