[发明专利]角落或侧边接触的无冲击力固晶方法在审

专利信息
申请号: 202110944509.1 申请日: 2021-08-17
公开(公告)号: CN114695151A 公开(公告)日: 2022-07-01
发明(设计)人: 卢彦豪 申请(专利权)人: 梭特科技股份有限公司
主分类号: H01L21/603 分类号: H01L21/603
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;曹娜
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 角落 侧边 接触 冲击力 方法
【说明书】:

发明提供了一种角落或侧边接触的无冲击力固晶方法,包括下列步骤:固晶装置拾取晶粒,晶粒表面无锡球且无铜柱;固晶装置将晶粒移动至晶粒放置区一侧,基板表面无锡球且无铜柱;固晶装置通过正压吹拂晶粒角落或侧边,使得晶粒角落或侧边挠曲变形以接触晶粒放置区;晶粒角落或侧边在接触晶粒放置区以后形成贴合波,贴合波从晶粒角落往其对角扩展或从晶粒侧边往其相对侧扩展,使得晶粒逐渐脱离固晶装置并且固定于晶粒放置区上;以及晶粒完全固定于晶粒放置区上。因此,本发明通过无冲击力的正压控制晶粒角落或侧边与基板接触,力道极小,不会损及晶粒。

技术领域

本发明是涉及一种固晶方法,特别涉及一种用以将晶粒固定于基板的角落或侧边接触的无冲击力固晶方法。

背景技术

集成电路通过大批方式,经过多道程序,制作在半导体晶圆上,晶圆进一步分割成多个晶粒。换言之,晶粒是以半导体材料制作而成未经封装的一小块集成电路本体。分割好的多个晶粒整齐贴附在一承载装置上,接着一承载框负责运送承载装置,然后将该多个晶粒依序转移至基板的多个晶粒放置区,利于进行后续加工程序。

晶圆对晶圆(wafer to wafer)的直接键合技术已经行之有年,属于前段制程,可以方便控制洁净度以及晶度。再者,晶圆的尺寸通常为6~12寸,尺寸较大,相对容易控制其贴合波的产生。晶圆对晶圆的直接键合的问题在于:应用在单芯片系统(system on achip)上较不容易。原因在于:单芯片系统通常是各家不同厂商的芯片结合而成,要将不同逻辑电路一开始就以同一片光罩制作完成,需要花费的成本相当高昂。

晶粒对晶圆的结合技术是为了整合不同厂商的小芯片(chiplet)而发展的技术,可以节省大量的开发成本,且在单芯片系统制程中可以直接应用其他厂商现有的小芯片解决方案(chiplet solution),不需要额外开发专用的逻辑电路。因此,晶粒对晶圆(die towafer)的结合技术是目前的发展趋势。

因为传统焊锡式结合技术已经接近极限,所以为了缩小晶粒尺寸以及接点大小,在晶粒对晶圆的结合技术方面,铜接点直接键合技术(即,混合键合技术)变成首选的解决方案。

然而,相对于晶圆对晶圆的直接键合技术,因为晶粒的尺寸较小,在贴合波的控制相当困难,所以目前尚未成功开发出适合晶粒对晶圆的混合键合技术。以下将介绍目前常用的三种晶粒对晶圆的结合技术。

第一种晶粒对晶圆的结合技术是:固晶装置先从承载装置上吸取晶粒,再将晶粒移动到基板上,使得晶粒直接接触基板,最后固晶装置脱离晶粒,从而晶粒固定在基板上。此技术的问题在于:容易发生晶粒与基板共同包住气泡而产生空洞(void)的情况,造成晶粒与基板没有完全紧密贴合,导致晶粒的后续加工程序容易受到气泡的影响,降低后续加工制成的产品良率。

第二种晶粒对晶圆的结合技术是:固晶装置以空抛的方式将晶粒转移至基板。此技术的问题在于:其一,晶粒具有一定质量,在重力的影响下,晶粒以一加速度下坠至晶粒放置区会产生较大的冲击力,使得晶粒接触到基板的力量较大而受损;其二,晶粒难以精准地放置在晶粒放置区上。

第三种晶粒对晶圆的结合技术是:固晶装置的内部具有三个弹性件,该等弹性件位于固定表面的相对侧,周边的两个弹性件的K值小于中心定位弹性件的K值,K值即弹簧系数。当固晶装置往基板的方向移动时,惯性对于内外K值不同的弹性件产生形变,进而使晶粒中央先接触基板,再产生贴合波,使得晶粒精确地转移至晶粒放置区上。此技术的问题在于:其一,当固晶装置往基板的方向移动时,该等弹性件会提供晶粒较大的质量惯性,导致晶粒接触到基板的冲击力较大而受损;其二,因为固晶装置本身的体积小,所以弹性件十分微小,不易组装,制造成本较高。

另外,上述三种固晶方法在晶粒结合于基板时,晶粒的贴合速度太快,造成晶粒容易受损、歪斜或弯折。

发明内容

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于梭特科技股份有限公司,未经梭特科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110944509.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top