[发明专利]掩模版缺陷无痕去除方法、装置、设备及其存储介质

权利要求书

1.一种掩模版缺陷无痕去除方法，其特征在于，该方法至少包括以下步骤：

1)对刻蚀后但未退去保护层感光胶的掩模版进行缺陷检测，得到所述掩模版上的若干个缺陷的位置信息和尺寸信息；

2)根据各所述缺陷的位置信息和尺寸信息确定第一脉冲频率，当尺寸信息大于100um时，选择第一脉冲频率射出的能量为预设能量的5％-10％；

3)根据所述第一脉冲频率选用去除需要的激光器，所述去除需要的激光器上第二脉冲频率为所述第一脉冲频率的1-1.5倍；同时，调节去除需要的激光器上的第二脉冲频率，以使得第二脉冲频率射出的能量与去除非金属材料的感光胶层所需要的能量相匹配；

4)通过所述去除需要的激光器对缺陷表面已经被显影固化的感光胶进行定点物理蒸发去除；

5)通过已经稀释1/3的刻蚀液对已去除感光胶的缺陷进行定点化学刻蚀，并回收反应液；

6)对比已去除感光胶的缺陷的尺寸面积A的透光率T 1 和空白区面积B的透光率T 2 ，其中，面积A等于面积B；

当T 1 ＜T 2 时，则重复步骤1)到步骤5)，当T 1 ＝T 2 时，结束整体过程；

所述根据各所述缺陷的所述尺寸信息确定第一脉冲频率，包括：计算所述缺陷的尺寸面积C；当所述缺陷的尺寸面积C与预设参考尺寸面积D之比大于0.5小于1时，选取第一脉冲频率为纳秒脉冲信号源，同时调节所述纳秒脉冲信号源发射出高频激光，当所述缺陷的尺寸面积C与预设参考尺寸面积D之比小于0.5时，调节所述纳秒脉冲信号源发射出低频激光；当所述缺陷的尺寸面积C与预设参考尺寸面积D之比大于1时，选取第一脉冲频率为皮秒脉冲信号源，同时调节所述皮秒脉冲信号源发射出高频激光；

所述通过所述去除需要的激光器对缺陷表面已经被显影固化的感光胶进行定点物理蒸发去除，包括：根据各所述缺陷的尺寸信息确定感光胶量；根据感光胶量设定所述去除需要的激光器的工作时间，利用设定好时间的去除需要的激光器对缺陷表面已经被显影固化的感光胶进行定点物理蒸发去除；

所述通过已经稀释1/3的刻蚀液对已去除感光胶的缺陷进行定点化学刻蚀，包括：

确定已去除感光胶的缺陷是否为规则图形；

当已去除感光胶的缺陷为不规则图形时，通过控制已经稀释1/3的刻蚀液按照预设的流速对已去除感光胶的缺陷进行定点化学刻蚀；

当已去除感光胶的缺陷为规则图形时，通过高压等离子按照预设轨迹对已去除感光胶的缺陷进行定点化学刻蚀。

2.根据权利要求1所述的掩模版缺陷无痕去除方法，其特征在于，所述通过已经稀释1/3的刻蚀液对已去除感光胶的缺陷进行定点化学刻蚀，并回收反应液之后，该方法还包括：清洗设备。

3.根据权利要求1所述的掩模版缺陷无痕去除方法，其特征在于，所述对刻蚀后但未退去保护层感光胶的掩模版进行缺陷检测之前，该方法还包括：

对所述掩模版进行曝光和显影。