[发明专利]一种储药植入体及制备方法在审
申请号: | 202110897954.7 | 申请日: | 2021-08-05 |
公开(公告)号: | CN113616855A | 公开(公告)日: | 2021-11-09 |
发明(设计)人: | 王呈栋;董建军;刘同舜;郭旭红;赵玉伟 | 申请(专利权)人: | 苏州大学 |
主分类号: | A61L27/54 | 分类号: | A61L27/54;A61L27/06;A61L27/12;G16H70/60;G16H70/40;G16H30/20 |
代理公司: | 苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙) 32257 | 代理人: | 朱振德 |
地址: | 215000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 植入 制备 方法 | ||
1.一种储药植入体,其特征在于:包括基体,所述基体内设有若干储药容腔,所述储药容腔在所述基体表面上设有释药口,所述基体上围绕所述释药口设有类蜂窝织构,每个所述类蜂窝织构与所述释药口相作用形成织构改性区,所述织构改性区具有70°-90°的亲水接触角或91°-120°的疏水接触角。
2.如权利要求1所述的一种储药植入体,其特征在于:所述类蜂窝织构为正六边形织构。
3.如权利要求2所述的一种储药植入体,其特征在于:所述正六边形织构的内切圆直径为40-200μm,所述织构改性区相对基体表面深度为20-80μm、相邻的所述织构改性区间距为5μm-30μm。
4.如权利要求1所述的一种储药植入体,其特征在于:所述储药容腔采用单一孔径线性阵列分布或大小孔径间隔环形阵列分布在所述基体内,所述释药口设在所述基体的病灶贴合面上。
5.如权利要求1所述的一种储药植入体,其特征在于:所述储药容腔为空心回转体,且所述储药容腔沿深度方向上的截面形状为圆柱形、球形或漏斗形。
6.如权利要求1-5任一项所述的一种储药植入体,其特征在于:所述储药容腔的体积为0.1mm3-2mm3,所述释药口的直径为0.2mm-1.5mm。
7.一种储药植入体的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:
S1:在基体上开设所需储药容腔并开设对应的释药口;
S2:在释药口周围开设类蜂窝织构,类蜂窝织构与释药口相作用形成织构改性区,其中,使织构改性区具有70°-90°的亲水接触角或91°-120°的疏水接触角,完成植入体制备。
8.如权利要求7所述的一种储药植入体的制备方法,其特征在于:所述S1具体包括以下步骤:
S11:根据治愈病灶所需的理论载药量,确定储药容腔个数与分布排列方式,计算所需储药容腔体积,确定储药容腔的几何结构和释药口直径;
S12:对患者待移植部位进行CT断层扫描,将获得的影像图片包导入DICOM重构,输出STL原始文件,随后将其导入三维建模软件进行小平面与实体转换,并在基体的病灶贴合处按照步骤S11开设储药容腔,生成打印模型文件并导入3D打印机开始打印;
S13:打印结束后将基体取下,依次进行热处理、去支撑、打磨和喷砂处理,得到基础植入体。
9.如权利要求8所述的一种储药植入体的制备方法,其特征在于:所述步骤S2具体包括以下步骤:
S21:提取打印模型文件中储药容腔释药口中心的坐标点集,绘制待刻蚀织构中心点集文件,导入飞秒激光器,设置激光刻蚀工艺参数后,开启激光器;
S22:激光光头定位储药容腔的释药口平面的中心点,随后沿着释药口外接多边形轨迹行走,在待刻蚀中心点位逐一刻蚀,在释药口周围形成以织构中心为原点、光斑大小为直径的类蜂窝织构,类蜂窝织构与释药口相作用形成织构改性区。
10.如权利要求9所述的一种储药植入体的制备方法,其特征在于:利用CT扫描配合三坐标仪测量步骤S2制备完成后的储药植入体的几何精度,并利用超景深3D显微镜测量并判断类蜂窝织构物理形貌:若几何精度误差小于0.5mm,且织构物理形貌误差小于10%,认定植入体为合格;否则重新适配激光刻蚀工艺参数,重复步骤S1和S2;利用接触角测量仪,测量织构改性区的亲水接触角或疏水接触角是否符合要求,若不满足,微调飞秒激光刻蚀工艺参数并重复步骤S21-S22。
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