[发明专利]一种在钴铬钼合金骨架上沉积钽金属涂层的制备方法

权利要求书

1.一种在钴铬钼合金骨架上沉积钽金属涂层的制备方法，其特征在于，包括以下内容：

将钴铬钼合金骨架(3)置于沉积室(2)中，并将钽金属粉末放于氧化室(1)中，对沉积室(2)和氧化室(1)抽真空后升温；

待温度稳定后，分别向氧化室(1)和沉积室(2)中通入氯气和氨气，沉积室(2)中的氨气分解成氮气和氢气，氧化室(1)中的氯气与金属钽粉末反应生成前驱体五氯化钽气体，由于压强的作用，五氯化钽气体从氧化室(1)流动到沉积室(2)中，与沉积室(2)中的氢气发生还原反应形成钽，钽金属沉积在钴铬钼合金骨架(3)的表面；

反应结束后，停止通入氯气，将反应过程中产生的尾气通入高浓度氢氧化钠溶液进行尾气处理。

2.如权利要求1所述的一种在钴铬钼合金骨架上沉积钽金属涂层的制备方法，其特征在于，钽金属粉末的纯度99.99％，粒径在48～150μm。

3.如权利要求1或2所述的一种在钴铬钼合金骨架上沉积钽金属涂层的制备方法，其特征在于，在将钴铬钼合金骨架(3)放置到沉积室(2)之前，先用酒精超声清洗钴铬钼合金骨架(3)10～30min，干燥温度为80～100℃，干燥时间为30～60min。

4.如权利要求1或2所述的一种在钴铬钼合金骨架上沉积钽金属涂层的制备方法，其特征在于，钴铬钼合金骨架3的抗拉强度为700～1350MPa，屈服强度为500～900MPa，延伸率可以达到8％～10％，弹性模量为220～234GPa。

5.如权利要求1或2所述的一种在钴铬钼合金骨架上沉积钽金属涂层的制备方法，其特征在于，钽金属粉末的纯度99.99％，粒径在48～150μm。

6.如权利要求1或2所述的一种在钴铬钼合金骨架上沉积钽金属涂层的制备方法，其特征在于，升温速率为3～8℃/min，沉积温度设置为800～1400℃。

7.如权利要求1或2所述的一种在钴铬钼合金骨架上沉积钽金属涂层的制备方法，其特征在于，氯气和氨气的纯度大于99.99％，其中氯气的流量为50～150ml/min，氨气的流量为400～1000ml/min。

8.如权利要求1或2所述的一种在钴铬钼合金骨架上沉积钽金属涂层的制备方法，其特征在于，沉积时间为30～200min。

9.一种具有钽金属涂层的钴铬钼合金骨架，其特征在于，包括钴铬钼合金骨架(3)，所述钴铬钼合金骨架(3)上设有钽金属涂层。