[发明专利]一种透明盖板及其制备方法、电子设备

说明书

本申请公开了一种透明盖板及其制备方法、电子设备。该透明盖板包括：透明基板，设有相背设置的第一侧及第二侧；透明导电层，设置在透明基板的第一侧上；电极，与透明导电层电连接，用于向透明导电层提供电信号，以使透明导电层产生热量。通过这种方式，能够改善电子设备的透明盖板在低温环境下结露或发雾等问题，从而提高透明盖板的透视性及电子产品的性能。

技术领域

本申请涉及电子设备盖板技术领域，特别是涉及一种透明盖板及其制备方法、电子设备。

背景技术

近年来，随着生活水平的提高，电子产品更新换代节奏越来越快，除了追求时尚的外观、丰富的功能外，对用户体验方面通常也有很高的要求。

本申请的发明人在长期的研发过程中发现，监控摄像头等电子设备在使用过程中，其透明盖板的内侧会在环境温度较低时产生结露或发雾等，导致摄像模糊。

发明内容

本申请主要解决的技术问题是如何改善电子设备的透明盖板在低温环境下结露或发雾等问题，从而提高透明盖板的透视性及电子产品的性能。

为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种透明盖板。该透明盖板用于电子设备，该透明盖板包括：透明基板，设有相背设置的第一侧及第二侧；透明导电层，设置在透明基板的第一侧上；电极，与透明导电层电连接，用于向透明导电层提供电信号，以使透明导电层产生热量。

在一具体实施例中，透明盖板进一步包括：第一增透层，设置在透明基板的第二侧上，用于提高透明基板的透射率。

在一具体实施例中，第一增透层包括：至少一个中间膜层；保护层，至少一个中间膜层设置在保护层与透明基板之间。

在一具体实施例中，中间膜层包括：第一膜层；第二膜层，第一膜层位于第二膜层与透明基板之间；其中，第二膜层的折射率小于第一膜层的折射率。

在一具体实施例中，第一膜层为Si₃N₄膜层，第二膜层为SiO₂膜层，保护层为MgF₂膜层。

在一具体实施例中，透明盖板进一步包括：第二增透层，设置在透明导电层背离透明基板的一侧上，用于提高透明基板的透射率；电极设置在透明导电层背离透明基板的一侧上，且位于第二增透层的外周；透明盖板的透视侧与透明盖板的第一侧同侧设置。

在一具体实施例中，第二增透层包括：依次层叠设置在透明导电层背离透明基板一侧的第三膜层、第四膜层及第五膜层，第三膜层位于透明导电层与第四膜层之间；其中，第五膜层的折射率小于第四膜层的折射率。

在一具体实施例中，第四膜层为TiO₂膜层、Nb₂O₅膜层、Ta₂O₅膜层或Si₃N₄膜层中的任一种，第三膜层及第五膜层为SiO₂膜层。

为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种透明盖板的制备方法。该透明盖板至少包括透明基板、透明导电层、电极、第一增透层及第二增透层，该制备方法包括：对透明基板进行强化处理；利用镀膜工艺在强化处理后的透明基板的第一侧的表面形成透明导电层；在透明导电层背离透明基板的一侧表面的边缘位置设置两道可剥落胶；在透明导电层背离透明基板的一侧表面及可剥落胶背离透明导电层的一侧表面形成第二增透层；将边缘位置的可剥落胶及位于可剥落胶上的第二增透层剥落，并在边缘位置设置电极；在强化处理后的透明基板的第二侧的表面上形成第一增透层，其中，透明基板的第一侧与第二侧相背设置。