[发明专利]一种金属网格柔性导电膜及其制作方法

说明书

本发明公开了一种金属网格柔性导电膜及其制作方法，包括基材，所述基材表面设置有催化剂层，催化剂层背离基材的一侧均设置有保护层，所述催化剂层和保护层之间设置有金属网格。本发明通过光刻胶的曝光、显影，形成线路图案，能够精准控制金属网格的线宽和相邻线路的间距，达到触控和视觉俱佳的效果；利用化学镀铜工艺，精确控制金属层的厚度，实现导电膜产品轻薄化；且金属层在光刻胶层上的凹槽中生成，能够有效减少卷对卷生产制程中，传动辊轮对于铜线路的刮伤风险，保证金属线路的导通性，最外层涂布形成的保护层对整个线路起到了保护作用，保证了产品性能稳定。

技术领域

本发明涉及导电膜技术领域，具体为一种金属网格柔性导电膜及其制作方法。

背景技术

目前，市场上的商品液晶显示器、等离子显示器、电致发光显示器、触摸屏等透明电极中最常用的导电膜材料是ITO(氧化铟锡)，其中金属铟为稀有金属，在自然界中存储量很低，而ITO中铟金属的含量约为75％。ITO所制导电膜的成本较高，产业可持续性存疑。此外，ITO材料自身和制备工艺均存在多种问题。随着全球智能终端的多元化发展，市场对于高端显示屏的需求日益增多，柔性显示作为新一代的显示技术，近年来已成为国际高技术领域的一个竞争热点，其强大的可塑性让柔性屏幕可以应用在多种场景的显示器上。柔性显示产品的普及，实现了对ITO导电材料的替代。在柔性显示产品中，金属网格具有低电阻率(10Ω/sq，远低于ITO材料的150Ω/sq)、卷对卷印刷工艺、低成本、良好的光学穿透度及柔性可弯曲(弯曲半径可达到2mm)等优点。但在现有的市售以及专利中，触控传感器金属网格厚度一般在1.5～5um，普遍较厚，成品不够轻薄，且全由金属物质构成，柔性不够。因此，我们提出一种金属网格柔性导电膜及其制作方法。

发明内容

本发明的目的在于提供一种金属网格柔性导电膜及其制作方法，以解决上述背景技术中提出的问题。

为了解决上述技术问题，本发明提供如下技术方案：一种金属网格柔性导电膜，包括基材，所述基材表面设置有催化剂层，催化剂层背离基材的一侧均设置有保护层，所述催化剂层和保护层之间设置有金属网格。

进一步的，所述催化剂层和保护层之间设置有光刻胶层，所述光刻胶层上开设有凹槽，所述金属网格位于凹槽内腔，金属网格背离基材的一侧设置有黑化层。

进一步的，所述金属网格线宽为2～5μm，所述金属网格中相邻两根平行线的间距为 10～300μm。

在上述技术方案中，金属网格的线宽为2～5μm，能够为所制导电膜提供较好的触控效果，且具备较为优异的视觉效果；金属网格中相邻两根平行线的间距为10～300μm，使得所制导电膜具备较高的触控灵敏度。

进一步的，所述催化剂层的厚度0.03～2μm，所述金属层的厚度0.2～2μm，所述黑化层的厚度30～50nm，所述光刻胶层的厚度1～10μm，所述保护层的厚度0.2～3μm。

进一步的，所述保护层为聚甲基丙烯酸甲酯中的一种，所述基材为PET、PC、PI、COP、 COC、PEN、TAC单组分薄膜，PC/PMMA复合薄膜中的一种。

一种金属网格柔性导电膜的制作方法，包括以下步骤：

(1)涂布：取基材，在其两上下两面涂布催化剂，形成催化剂层，在催化剂层的表面涂布光刻胶，形成光刻胶涂布层，制得基材A；

(2)曝光：将步骤(1)所得基材A置于光罩下进行曝光处理，光刻胶涂布层中的光照区域固化，制得基材B；

(3)显影：取步骤(2)所得基材B置于显影液中进行显影处理，去除光刻胶涂布层中未光照的部分，形成具有凹槽的光刻胶层，凹槽内的催化剂层暴露，形成线路图案，制得基材C；

(4)镀铜：取步骤(3)所得基材C置于镀铜液中进行化学镀铜，在凹槽的内腔形成金属层，制得基材D；