[发明专利]基于半极性超晶格结构的宽波段紫外探测器及其制备方法在审
申请号: | 202110762359.2 | 申请日: | 2021-07-06 |
公开(公告)号: | CN113675284A | 公开(公告)日: | 2021-11-19 |
发明(设计)人: | 徐峰 | 申请(专利权)人: | 扬州大学 |
主分类号: | H01L31/0352 | 分类号: | H01L31/0352;H01L31/0304;H01L31/101;H01L31/18 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 柏尚春 |
地址: | 225009 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 极性 晶格 结构 波段 紫外 探测器 及其 制备 方法 | ||
本发明公开了一种基于半极性超晶格结构的宽波段紫外探测器及其制备方法,所述紫外探测器包括衬底、生长在衬底上的薄膜层、淀积在薄膜层的掩膜层、以及生长在掩膜层上的光吸收层、以及复合于光吸收层上的电极层;所述光吸收层为半极性AlInGaN超晶格材料。本发明将低缺陷密度的半极性AlxGa1‑xN/InyGa1‑yN超晶格结构成功应用于紫外探测器吸收层,同时可以通过精确调节金属Al、In金属元素组分x和y,使AlxInyGa1‑x‑yN超晶格材料带隙宽度在3.4~6.2eV范围连续可调,对应的响应波长范围处于200~365nm。本发明的紫外探测器能够兼顾降低材料缺陷密度和极化效应,结合金属叉指结构电极工艺,能有效提高光生载流子收集效率,在降低器件暗电流的同时,显著提高响应度和响应速度。
技术领域
本发明涉及一种半导体器件及其制备,尤其涉及一种基于半极性超晶格结构的宽波段紫外探测器及其制备方法。
背景技术
宽波段紫外探测技术在紫外通讯、侦察及预警、环境污染监测等领域具有极其重要的应用。AlGaN基第三代宽禁带半导体材料由于具有高电子饱和速度、高击穿电场、高热导率和耐辐射等物化特性,已成为制备紫外探测器的优选材料体系。通过调节AlGaN的材料组分可以使探测波长在200~365nm范围内连续可调,非常适用于在可见光背景下辨别监测日盲紫外宽波段。AlGaN基金属-半导体-金属(MSM)结构探测器因其电容小、结构简单、高响应度、高紫外探测比等优势,成为目前最受关注的紫外探测器之一。
AlGaN紫外探测器虽然拥有上述诸多优势,但基于异质外延生长导致的晶格失配和热失配会在AlGaN材料中引入高密度位错缺陷,使肖特基势垒厚度变薄,形成缺陷辅助的隧穿电流,从而增加探测器暗电流,此外,金属与半导体界面的缺陷态会捕获光生载流子导致光电导增益,降低了探测器件的响应速度,更为关键的是,AlGaN材料较强的极化效应严重制约了光生载流子输运,导致光生载流子不能被有效收集,限制了器件探测效率和工作性能。
发明内容
发明目的:本发明的目的提供一种响应速度快、探测效率高、暗电流低、器件性能好的基于半极性超晶格结构的宽波段紫外探测器;本发明的另一目的提供一种基于半极性超晶格结构的宽波段紫外探测器的制备方法。
技术方案:本发明的基于半极性超晶格结构的宽波段紫外探测器,包括衬底、生长在衬底上的薄膜层、淀积在薄膜层的掩膜层、以及生长在掩膜层上的光吸收层、以及复合于光吸收层上的电极层;所述光吸收层为半极性AlInGaN超晶格材料;AlInGaN超晶格材料为AlxGa1-xN/InyGa1-yN超晶格结构,其中,Al的组分x变化区间为0~1,In的组分y变化区间为0~1,且x/y为4.66。
优选的,衬底为蓝宝石衬底或硅衬底。
优选的,薄膜层为GaN薄膜层,电极层为Ni/Au双层MSM金属电极层,掩膜层为SiO2掩膜层或Si3N4掩膜层。
优选的,AlxGa1-xN/InyGa1-yN超晶格结构中包含n个AlxGa1-xN子层和n个InyGa1-yN子层;其中,AlxGa1-xN子层为半极性晶面,厚度不小于0.1nm,InyGa1-yN子层为半极性晶面,厚度不小于0.1nm。
优选的,AlxGa1-xN/InyGa1-yN的超晶格结构周期数不小于1。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于扬州大学,未经扬州大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110762359.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的