[发明专利]一种清洁方法、装置、设备和存储介质有效

专利信息
申请号: 202110762294.1 申请日: 2021-07-06
公开(公告)号: CN113440074B 公开(公告)日: 2023-05-30
发明(设计)人: 沈孝通;张亦弛;秦宝星;程昊天 申请(专利权)人: 上海高仙自动化科技发展有限公司
主分类号: A47L11/40 分类号: A47L11/40;G06V20/00;G06V10/22
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 陈金忠
地址: 201203 上海市浦东新区自*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 清洁 方法 装置 设备 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种清洁方法,其特征在于,应用于电子设备,该方法包括:

确定所述电子设备驶入待清洁区中的临时障碍区时,对所述临时障碍区进行障碍检测;其中,障碍检测结果包括确定所述临时障碍区为无障碍区或者确定所述临时障碍区为障碍区;

所述临时障碍区为障碍区,目标运行模式包括障碍清洁模式或驶离模式时,如果所述目标运行模式包括障碍清洁模式,控制所述电子设备执行所述障碍清洁模式,对确定为所述障碍区的所述临时障碍区进行清洁;如果所述目标运行模式包括驶离模式,控制所述电子设备执行所述驶离模式,驶离确定为所述障碍区的所述临时障碍区;

所述临时障碍区为障碍区,所述目标运行模式包括障碍清洁模式和驶离模式时,确定所述电子设备在确定为障碍区的所述临时障碍区执行所述障碍清洁模式还是驶离模式;如果执行障碍清洁模式,控制所述电子设备对确定为所述障碍区的所述临时障碍区进行清洁;如果执行驶离模式,控制所述电子设备驶离确定为所述障碍区的所述临时障碍区;

其中,所述障碍区为根据障碍区中存在的障碍物类型确定的第一障碍区或者第二障碍区,所述障碍清洁模式包括用于清洁所述第一障碍区的第一障碍清洁模式和用于清洁所述第二障碍区的第二障碍清洁模式。

2.根据权利要求1所述的清洁方法,其特征在于,

在确定所述电子设备驶入待清洁区中的临时障碍区之前,还包括:基于环境地图确定所述临时障碍区;

和/或,

所述障碍检测结果包括确定所述临时障碍区为无障碍区,所述目标运行模式包括普通清洁模式,相应地,控制所述电子设备执行目标运行模式,包括:控制所述电子设备执行普通清洁模式,对确定为所述无障碍区的所述临时障碍区进行清洁;

和/或,

所述电子设备包括清洁模块,相应地,在确定所述电子设备驶入待清洁区中的临时障碍区时,还包括:以地面为基准控制抬起所述清洁模块。

3.根据权利要求1所述的清洁方法,其特征在于,对所述临时障碍区进行障碍检测,包括:

根据所述电子设备驶入所述临时障碍区的驶入位置和所述临时障碍区中的预设位置构建检测路径;

基于所述检测路径依次获取检测数据,所述检测数据用于确定所述电子设备的当前位置是否包含障碍物;

基于时间信息和/或距离信息对所述检测数据进行累计,并基于累计结果确定所述障碍检测结果。

4.根据权利要求1所述的清洁方法,其特征在于,所述障碍检测结果包括确定所述临时障碍区为无障碍区或者确定所述临时障碍区为障碍区,

相应地,在对所述临时障碍区进行障碍检测之后,还包括:

如果所述障碍检测结果为确定所述临时障碍区为所述障碍区,则将环境地图中的当前临时障碍区更新为所述障碍区;

如果所述障碍检测结果为确定所述临时障碍区为无障碍区,则将环境地图中的当前临时障碍区更新为所述无障碍区。

5.根据权利要求4所述的清洁方法,其特征在于,还包括:

在确定所述待清洁区清洁完成后,将更新为障碍区的所述临时障碍区以及更新为无障碍区的所述临时障碍区重置为所述临时障碍区。

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