[发明专利]制造显示装置的装置在审

专利信息
申请号: 202110743368.7 申请日: 2021-07-01
公开(公告)号: CN113889590A 公开(公告)日: 2022-01-04
发明(设计)人: 高晙赫;金義圭;金珉奭;金奉骏;俞何岚;郑京勋 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L21/683;H01L27/32
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 翟洪玲;周艳玲
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 制造 显示装置 装置
【说明书】:

一种制造显示装置的装置包括基板。掩模组件包括开口、围绕开口的掩模框架和联接到掩模框架的至少一个掩模。静电卡盘被配置以将基板附着到至少一个掩模。第一驱动器被配置以驱动静电卡盘。掩模框架的至少局部部分在基板的厚度方向上与静电卡盘不重叠。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2020年7月3日在韩国知识产权局提交的第10-2020-0082263号韩国专利申请的优先权,该韩国专利申请的公开内容通过引用全部并入本文。

技术领域

一个或多个示例性实施例涉及一种制造显示装置的装置,更具体地,涉及一种制造显示装置的装置,其中工艺良率增加。

背景技术

随着信息导向社会的发展,对用于显示图像的显示装置的需求增加。相对薄且轻量并且提供相对较大的显示面积的平板显示(FPD)设备已经变得越来越普及。例如,FPD设备已经取代了与FPD设备相比具有相对较大的尺寸的阴极射线管(CRT)。FPD设备包括液晶显示(LCD)设备、等离子体显示面板(PDPs)、有机发光显示(OLED)设备和电泳显示(ED)设备。

有机发光显示装置包括有机发光二极管,有机发光二极管包括对电极、像素电极和发射层。有机发光显示装置的电极和发射层可以通过各种方法形成。这些方法之一包括独立沉积方法。独立沉积方法涉及张紧精细金属掩模(FMM)以将FMM紧密地附着到掩模框架,以及将沉积材料沉积到表面。

发明内容

一个或多个示例性实施例包括一种工艺损失减小的制造显示装置的装置,以及一种制造显示装置的方法。

附加方面将在随后的描述中部分地阐述,并且将部分地从该描述中变得明显,或者可以通过实践本发明构思的所提出的示例性实施例来获悉。

根据示例性实施例,一种制造显示装置的装置包括基板。掩模组件包括开口、围绕所述开口的掩模框架和联接到所述掩模框架的至少一个掩模。静电卡盘被配置以将所述基板附着到所述至少一个掩模。第一驱动器被配置以驱动所述静电卡盘。所述掩模框架的至少局部部分在所述基板的厚度方向上与所述静电卡盘不重叠。

在平面图中,所述掩模框架的内端可以远离所述静电卡盘的外端。

连接构件可以联接到所述静电卡盘的顶表面的至少一部分,以将所述静电卡盘连接到所述第一驱动器。

所述第一驱动器可以将所述静电卡盘向上或向下转移。

所述装置可以进一步包括第一板,被配置以将所述基板紧密地附着到所述掩模。

所述静电卡盘和所述第一板可以被独立地驱动。

所述装置可以进一步包括被配置以驱动所述第一板的第二驱动器,其中所述第二驱动器可以将所述第一板向上或向下转移。

所述连接构件可以包括槽,并且所述第一板可以安置在所述槽中。

所述连接构件可以包括开口,所述开口暴露所述静电卡盘的顶表面的至少一部分,并且所述第一板可以安置在所述开口中。

所述掩模框架可以包括具有第一厚度的第一部分;以及第二部分,具有小于所述第一厚度的第二厚度,其中所述第一部分可以与所述静电卡盘不重叠。

根据示例性实施例,一种制造显示装置的装置包括基板。掩模组件包括开口、围绕所述开口的掩模框架和联接到所述掩模框架的至少一个掩模。静电卡盘被配置以将所述基板附着到所述掩模。第一驱动器被配置以驱动所述静电卡盘。所述静电卡盘包括主体部分,在所述基板的厚度方向上与所述掩模框架不重叠,并且具有第一厚度;以及连接部分,在所述基板的所述厚度方向上与所述掩模框架至少部分地重叠,并且具有小于所述第一厚度的第二厚度。

所述连接部分可以至少部分地围绕所述主体部分。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司,未经三星显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110743368.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top