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专利名称

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申请人
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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]沉积掩模台、显示器制造设备以及显示器制造方法-CN202310297028.5在审
发明人： 金義圭;李尚玟;高晙赫;金宗范;文在晳;安洪均;郑京勳 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2023-03-24 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：公开了沉积掩模台、显示器制造设备以及显示器制造方法，所述沉积掩模台包括台框架、与所述台框架组合的多个卡盘以及在所述台框架的后侧上的多个支撑块。所述多个卡盘在第一方向和第二方向上彼此间隔开，所述第一方向和所述第二方向被限定为所述台框架的延伸方向。所述第一方向和所述第二方向彼此相交。所述多个支撑块在所述台框架的所述后侧上在所述第一方向和所述第二方向上彼此间隔开。
沉积掩模台显示器制造设备以及方法

[发明专利]显示装置及用于制造显示装置的光掩模和方法-CN202210106917.4在审
发明人：文在晳;金義圭;李尚玟;李相信;李丞赈;洪承柱 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-01-28 - 公布日： 2022-07-29 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：本发明公开显示装置及用于制造显示装置的光掩模和方法。该显示装置包括：第一像素的第一像素电极；与第一像素邻近的第二像素的第二像素电极，第一像素和第二像素发射彼此不同颜色的光；位于第一像素电极上的第一下发射层；位于第二像素电极上的第二下发射层；位于第一下发射层上的第一上发射层；位于第二下发射层上的第二上发射层；位于第一下发射层与第一上发射层之间以及位于第二下发射层与第二上发射层之间的电荷产生层；以及跨第一上发射层和第二上发射层延伸的对电极。电荷产生层包括第一部分和第二部分，并且第一部分和第二部分的电导率彼此不同。
显示装置用于制造光掩模方法

[发明专利]掩模-CN202110807435.7在审
发明人：金世一;金義圭;李宽熙;李尚玟;高晙赫;洪承柱 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-07-16 - 公布日： 2022-01-18 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：一种掩模包括第一掩模，所述第一掩模包括在第一方向上延伸的第一长边和在与所述第一方向交叉的第二方向上延伸的第一短边，并且所述第一掩模包括在所述第一方向上顺序布置的第一边缘部分、第一中心部分和第一焊接部分。所述掩模进一步包括第二掩模，所述第二掩模包括在所述第一方向上延伸的第二长边和在所述第二方向上延伸的第二短边，并且所述第二掩模包括在所述第一方向上顺序布置的第二焊接部分、第二中心部分和第二边缘部分。所述第一焊接部分与所述第二焊接部分接触。
掩模

[发明专利]制造显示装置的装置-CN202110743368.7在审
发明人：高晙赫;金義圭;金珉奭;金奉骏;俞何岚;郑京勋 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-07-01 - 公布日： 2022-01-04 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：一种制造显示装置的装置包括基板。掩模组件包括开口、围绕开口的掩模框架和联接到掩模框架的至少一个掩模。静电卡盘被配置以将基板附着到至少一个掩模。第一驱动器被配置以驱动静电卡盘。掩模框架的至少局部部分在基板的厚度方向上与静电卡盘不重叠。
制造显示装置装置

[发明专利]掩模组件和制造掩模组件的方法-CN202110006236.6在审
发明人：金世一;李尚玟;金義圭;白大源 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-01-05 - 公布日： 2021-08-13 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本公开涉及掩模组件和用于制造掩模组件的方法。掩模组件包括：掩模框架，包括在第一方向上并排地定位并由支撑条限定的第一掩模开口和第二掩模开口；第一分离掩模，与所述第一掩模开口重叠；以及第二分离掩模，与所述第二掩模开口重叠，并且所述第一分离掩模和所述第二分离掩模在与所述支撑条重叠的区域中彼此间隔开。
模组制造方法

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