[发明专利]一种用于电子电路和芯片制造的废弃物收纳装置及方法在审

专利信息
申请号: 202110700272.2 申请日: 2021-06-23
公开(公告)号: CN113353505A 公开(公告)日: 2021-09-07
发明(设计)人: 石南;杨少康 申请(专利权)人: 瑞燃(上海)环境工程技术有限公司
主分类号: B65F1/16 分类号: B65F1/16;B65F1/14;B65F1/00;B65F7/00
代理公司: 北京挺立专利事务所(普通合伙) 11265 代理人: 余莹
地址: 200000 上海市浦东新区中国(上*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 用于 电子电路 芯片 制造 废弃物 收纳 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种用于电子电路和芯片制造的废弃物收纳装置,包括外筒体和桶盖,其特征在于,所述外筒体上端一侧通过旋转轴与所述桶盖一侧连接,所述外筒体内安装有内筒,所述内筒放置于支撑装置上,所述支撑装置包括支撑架,所述支撑架连接于所述外筒体内壁上,所述支撑架中心位置设置有自动抽风装置,所述自动抽风装置包括抽风机,所述抽风机固定于所述支撑架下侧,所述抽风机通过所述支撑架上侧的挤压开关控制,所述外筒体内壁与所述内筒之间间隔形成夹层,所述抽风机下侧设置有挥发物气体过滤装置,所述挥发物气体过滤装置包括干式化学过滤层,所述干式化学过滤层滑动安装于所述外筒体内壁上,所述挥发物气体过滤装置下端安装有风机,所述风机固定于所述外筒体内壁上,所述外筒体内壁上设置有排风口。

2.根据权利要求 1 所述的一种用于电子电路和芯片制造的废弃物收纳装置,其特征在于,所述内筒上端开口高于所述外筒体上端开口,所述内筒上端开口与所述桶盖活动连接,所述内筒上端开口两侧设置有U型槽。

3.根据权利要求 2 所述的一种用于电子电路和芯片制造的废弃物收纳装置,其特征在于,所述桶盖内设置有卡槽,所述卡槽设置于所述桶盖内侧周圈处,所述卡槽包括内板与外板,所述内板与外板之间间隔设置有内筒槽,所述内筒槽开口直径略大于所述内筒上端开口直径。

4.根据权利要求 3 所述的一种用于电子电路和芯片制造的废弃物收纳装置,其特征在于,所述内筒槽两侧设置有与所述U型槽对应的凹槽,所述凹槽上安装有吹风机,所述U型槽与所述夹层连通。

5.根据权利要求 1 所述的一种用于电子电路和芯片制造的废弃物收纳装置,其特征在于,所述外筒体上设置有脚踩板,所述脚踩板安装于所述外筒体一侧,所述脚踩板上活动连接有第一拉杆,所述第一拉杆另一端通过转轴与第二拉杆一端连接,所述转轴固定于所述外筒体底部,所述第二拉杆另一端固定于所述桶盖一侧。

6.根据权利要求 1 所述的一种用于电子电路和芯片制造的废弃物收纳装置,其特征在于,所述挤压开关包括挤压弹簧,所述挤压弹簧下端设置有重力感应器和霍尔传感器,所述重力传感器控制所述霍尔传感器,所述霍尔传感器控制所述抽风机旋转速度。

7.根据权利要求 1 所述的一种用于电子电路和芯片制造的废弃物收纳装置,其特征在于,所述干式化学过滤层包括多孔介质和化学药剂,所述多孔介质包括三氧化二铝,活性炭或分子筛的一种或多种,所述化学药剂为高锰酸钾、高锰酸钠、磷酸、FeS、 MgO、NaOH、KOH或二溴百里酚磺酞中的一种或多种。

8.根据权利要求 7 所述的一种用于电子电路和芯片制造的废弃物收纳装置,其特征在于,所述多孔介质的颗粒形状为球形或者圆柱形的一种,球形直径为2mm~8mm,圆柱形直径为2mm~8mm,圆柱形高度为6~15mm。

9.一种用于电子电路和芯片制造的废弃物收纳装置的方法,其特征在于,所述一种用于电子电路和芯片制造的废弃物收纳装置为权利要求1到8任一权利要求所述的废弃物收纳装置,包括以下步骤:

S1:废弃物被放置于收纳装置内,根据废弃物的重量,带动所述挤压开关的弹簧下压,重力感应器将感应重力信号传输给霍尔传感器,通过霍尔传感器传输控制所述抽风机进行旋转进行抽风,废弃物的重量越大,霍尔传感器控制风机转速越快;

S2:同时所述桶盖盖住所述外筒体后,所述桶盖上的所述卡槽卡住所述内筒上端开口,通过设置的U型槽与所述卡槽内凹槽对应嵌入,凹槽内设置的吹风机旋转,加快废弃物内有害气体的抽出;

S3:同时由于U型槽与所述夹层连通,废弃物气体通过夹层抽至干式化学过滤层进行过滤,通过化学过滤层将有害气体过滤,下端设置的风机进行排风,通过排风口将无害气体排出。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瑞燃(上海)环境工程技术有限公司,未经瑞燃(上海)环境工程技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110700272.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top